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深圳uv光解除臭設備推薦

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發(fā)布時間:2020-11-13 14:05  






UV光解廢氣處理設備適用于化學工業(yè)的靜電、除塵??梢詼p少化學工業(yè)、電腦機房、造紙工業(yè)、電子工業(yè)、印刷業(yè)等行業(yè)工作過程中空氣的灰塵;消除靜電、異味、揮發(fā)性。

其實我們一直覺得廢氣難以處理,究其原因還是廢氣的成分復雜,難以分清哪些廢氣適合用那種處理方式,而且廢氣擴散速度快,和排放量又大,難以徹底清理,目前要徹底清理還是無法達到這個要求的。而UV光解凈化器研發(fā)出來后,廢氣就變得容易處理多了,處理,占地面積小,后期的運行維護也十分方便。




UV光解設備是利用的高能臭氧UV紫外線光束照射氣體,使之裂解,并且在紫外線的照射下降解成無毒無害的水和二氧化碳等。

而等離子除臭設備是利用高能電子以及自由基等活性粒子和廢氣中的污染物的作用,從而降解污染物。使污染物在短時間內分解,達到凈化氣體的目的。

兩種設備各有不同,也各有優(yōu)勢,在其中選擇時不妨資詢相關技術人員的建議,做出z好的選擇。










 工業(yè)uv光解凈化設備而醛和酮比初始的碳氫化合物在光催化階段具有更好的反響活性;別的,光解階段發(fā)生的副產品在光催化階段不只有利于轉變成二氧化碳和水,uv光解凈化設備一起也促進開始的工業(yè)廢氣的氧化、分化與損壞。光解階段發(fā)生的副產品進入光催化階段促進光催化劑的外表反響,比方鏈反響,也影響催化劑外表的界面反響,能夠快速氧化其它污染物。因而,UV光解光催化是一個協(xié)同反響進程。   節(jié)能UV光氧凈化設備占地面積小,自重輕:適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件,設備占地面積<1平方米/處理10000m3/h風量。光氧凈化設備利用的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體,改變惡臭氣體分子鏈結構,使有機或者無機高分子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線光速照射下,降解轉變成低分子化合物,如CO2、H2O等。   惡臭氣體利用排風設備輸入到本凈化設備后,凈化設備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分解氧化反應,使惡臭氣體物質其降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通過排風管道排出室外。   UV光解凈化設備產品進口材料制造,防火、防腐蝕性能高,設備性能安全穩(wěn)定,采用不銹鋼材質或PP,設備使用壽命在十五年以上;采用上zui先進技術理念,可徹底分解工業(yè)廢氣中有害有毒物質,并能達到的脫臭、凈化效果,經分解后的工業(yè)廢氣,可完全達到無害排放,不產生二次污染,同時達到消毒菌的作用。


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