不同應(yīng)用時(shí)輸出鏡有不同透過(guò)率的要求，因此必須采用光學(xué)鍍膜方法。對(duì)于CO2激光燈中紅外線波段，常用的鍍膜材料有氟化釔、氟化鐠、鍺等；對(duì)于YAG激光燈近紅外波段或可見(jiàn)光波段，常用的鍍膜材料有硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯等。除了高反膜、增透膜之外，還可以鍍對(duì)某波長(zhǎng)增反射、對(duì)另一波長(zhǎng)增透射的特殊膜，如激光倍頻技術(shù)中的分光膜等。光學(xué)鍍膜基本原理光的干涉在薄膜光學(xué)中廣泛應(yīng)用。光學(xué)薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜，一般用來(lái)控制基板對(duì)入射光束的反射率和透過(guò)率，以滿足不同的需要。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

測(cè)試方法：連續(xù)對(duì)鍍膜室抽氣24h這一時(shí)間段之間，測(cè)定出過(guò)程中的壓力zui低值，則定為該設(shè)備的極限壓力。如果壓力變化值在0.5h內(nèi)沒(méi)有超過(guò)5％的波動(dòng)，則取zui高測(cè)量表讀數(shù)值作為極限壓力值。二、鍍膜室抽氣時(shí)間的測(cè)定1、試驗(yàn)條件：與上述極限壓力測(cè)定的試驗(yàn)條件的（1）~（4）相同。2、測(cè)試方法：在連續(xù)抽氣的前提之下，待至鍍膜室內(nèi)達(dá)到極限壓力，再將鍍膜室打開(kāi)15min，然后將鍍膜室關(guān)閉，再次將鍍膜室抽氣至規(guī)定的壓力標(biāo)準(zhǔn)，此間這段所需的時(shí)間，就是該設(shè)備的抽氣時(shí)間。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

有70多種元素、50多種無(wú)機(jī)化合物材料和多種合金材料可供選擇。濺射鍍sputteringdepsitsnn用荷能粒子(通常為氣體止離子)轟擊靶材，使靶材表面部分原子逸出的現(xiàn)象r.若把零件放在靶材附近酌適當(dāng)位置上，則從靶材飛出的原子便會(huì)沉積到零件表面而形成鍍層。它特另}l適用于高熔點(diǎn)金屬、合金、半導(dǎo)體和各類化合物的鍍覆二主要用于制備電子元件上所需的各種鍍層。也可用來(lái)鍍覆氮化欽仿金鍍層和在切削刀具上鍍覆氮化欽、碳化欽等硬質(zhì)鍍層，以提高其使用壽命和切削功能。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制