大家在使用鍍鎳砂時一個主要困擾是：砂的鍍覆活性不穩(wěn)定，由此導(dǎo)致上砂質(zhì)量的波動。不穩(wěn)定的一個主要原因是砂的退鍍，那為什么鍍鎳砂容易退鍍呢？可能這篇文章能給你一些答案。

鍍鈦砂和鍍鎢砂，都屬于高耐腐蝕砂，鍍層穩(wěn)定。比如，日本使用鍍鈦砂，耐久性2-3個月，有利于產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定和產(chǎn)線的自動化。

鍍W砂，W與金剛石界面形成W2C化學(xué)鍵合，而且W-Ni相容性優(yōu)異，有利于砂與基線鍍層的結(jié)合，所以鍍W砂也是很有潛力的線鋸原材料。

射頻濺射

采用射頻電源代替直流電源，在靶和襯底間施加高頻電壓，濺射時，靶極會產(chǎn)生自偏壓效應(yīng)（即靶極會自動處于負(fù)電位狀態(tài)），使絕緣靶的濺射得到維持。常用的頻率約為13.56兆赫。

優(yōu)點(diǎn)可以濺射所有材料，包括導(dǎo)體和絕緣體濺射可大規(guī)模生產(chǎn)

磁控濺射

磁控濺射通過在靶陰極表面引入正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面，成螺旋狀運(yùn)行來增強(qiáng)電離效率，增加離子密度和能量以增加濺射率。電源方面可同時配備直流和射頻兩種。

PVD (Physical Vapor Deition) 即物理氣相沉積，分為：真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。因?yàn)樵阱兡み^程中，真空系統(tǒng)必需要工作穩(wěn)定，爐體保壓要好，如果在鍍膜過程中有雜氣摻入，顏色就會不理想，嚴(yán)重的還會脫鈦。我們通常所說的PVD鍍膜 ，指的就是真空離子鍍膜；通常說的NCVM鍍膜，就是指真空蒸發(fā)鍍膜和真空濺射鍍。真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發(fā)，然后沉積在基體表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面，歷，真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術(shù)。

離子鍍時，蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電力線方向運(yùn)動，因而凡是有電場存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多。除油—去污—流水沖洗—去離子水沖洗—脫水過清洗線后將工件掛到PVD治具上，放入烤箱烘烤干燥薄膜的制備方法很多，主要有氣相法和液相法，其中氣相法又分為物理氣相沉積（PVD）和化學(xué)氣相沉積（CVD）兩大類。因此，這種方法非常適合于鍍復(fù)零件上的內(nèi)孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內(nèi)孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機(jī)，能夠沿著規(guī)定的航線飛抵其活動半徑范圍內(nèi)的任何地方。