為了消除光學(xué)零件表面的反射損失，提高成像質(zhì)量，涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜，稱為增透膜或減反射膜。隨著激光技術(shù)的發(fā)展，對膜層的反射率和透過率有不同的要求，促進(jìn)了多層高反射膜和寬帶增透膜的發(fā)展。為各種應(yīng)用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等。光學(xué)零件表面鍍膜后，光在膜層層上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜層的折射率和厚度，可以得到不同的強(qiáng)度分布，這是干涉鍍膜的基本原理。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

因此需要合理設(shè)計鍍膜設(shè)備的抽氣系統(tǒng)，保證膜材蒸汽分子到達(dá)基片表面的速率高于殘余氣體分子到達(dá)的速率，以減少殘余氣體分子對膜層的撞擊和污染，提高膜層的純度。此外，在10-4Pa時真空室內(nèi)殘余氣體的主要組分為水蒸氣(約占90%以上)，水氣與金屬膜層或蒸發(fā)源均會發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成氧化物而釋放出氫氣。因此，為了減少殘余氣體中的水分，可以提高真空室內(nèi)的溫度，使水分解，也是提高膜層質(zhì)量的一種有效辦法。還應(yīng)注意蒸發(fā)源在高溫下的放氣。在蒸發(fā)源通電加熱之前，可先用擋板擋住基片，然后對膜材加熱去氣。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

后處理，涂面漆。第三節(jié)濺射鍍膜濺射鍍膜是指在真空條件下，利用獲得功能的粒子轟擊靶材料表面，使靶材表面原子獲得足夠的能量而逃逸的過程稱為濺射。被濺射的靶材沉積到基材表面，就稱作濺射鍍膜。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在l0-2Pa～10Pa范圍，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運(yùn)動方向隨機(jī)，沉積的膜易于均勻。近年發(fā)展起來的規(guī)模性磁控濺射鍍膜，沉積速率較高，工藝重復(fù)性好，便于自動化，已適當(dāng)于進(jìn)行大型建筑裝飾鍍膜，及工業(yè)材料的功能性鍍膜，及TGN-JR型用多弧或磁控濺射在卷材的泡沫塑料及纖維織物表面鍍鎳Ni及銀Ag。第四節(jié)電弧蒸發(fā)和電弧等離子體鍍膜這里指的是PVD領(lǐng)域通常采用的冷陰極電弧蒸發(fā)，以固體鍍料作為陰極，采用水冷、使冷陰極表面形成許多亮斑，即陰極弧斑?；“呔褪请娀≡陉帢O附近的弧根。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

由于模具型腔在高溫下工作，因此壓鑄模具性能的改善的需要具有以下特性在模具使用壽命內(nèi)，必須保持在高溫和低溫交替條件下的型腔面精度和變形量。因此壓鑄模具的材料除了應(yīng)具備有塑料模具的特點(diǎn)外，還應(yīng)該具有you秀的抗高溫性能、硬度、抗yang化性、回火穩(wěn)定性和抗沖擊韌性，具有良好的導(dǎo)熱性和kang疲勞性，傳統(tǒng)壓鑄模具采用淬火，回火，拋光的處理工藝，對材料本身的硬度提高有限，同時溫度由于工作溫度接近或者超過回火溫度，易造成模具的二次回火造成模具硬度降低和，模具變形。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制