有通用的平面研磨機(jī)？

1.本平面研磨機(jī)為精密研磨設(shè)備，被研磨產(chǎn)品放置于研磨盤上，研磨盤逆時(shí)鐘旋轉(zhuǎn)，工件自己轉(zhuǎn)動(dòng)，用重力加壓的方式對(duì)工件施壓，工件與研磨盤作相對(duì)旋轉(zhuǎn)磨擦，來達(dá)到研磨目的。  

2.修盤機(jī)采用油壓懸浮導(dǎo)軌，配合金剛石修面刀對(duì)研磨盤進(jìn)行精密修整，使研磨盤得到精密的平面度。  

設(shè)備特點(diǎn)：

1、變頻控制，實(shí)現(xiàn)軟啟動(dòng)，軟停機(jī)，沖擊力小，減少工件損傷。

2.系列研磨機(jī)采用PLC程序控制，觸摸屏操作面板，研磨盤轉(zhuǎn)數(shù)與定時(shí)與研磨時(shí)間可以直接在觸摸屏上輸入、速度可調(diào)，操作方便。

3、采用進(jìn)口軸承，電機(jī)，確保設(shè)備的穩(wěn)定性和 壽命，確保工件的精密要求。

4、研磨機(jī)工件加壓采用壓重塊自重加壓，拋光后工件表面光亮度高、無(wú)劃傷、無(wú)劃痕、無(wú)料紋、無(wú)麻點(diǎn)、不塌邊、平面度高等特點(diǎn)。拋光后工件表面粗糙度可達(dá)到Ra0.0002；平面度可控制在±0.002mm范圍內(nèi)。

到2000年開始，拋光技術(shù)在中國(guó)有了重大的變革。不少企業(yè)開始研究自己的拋光產(chǎn)品，到了2006年的時(shí)候，更是涌現(xiàn)了一批新的拋光設(shè)備和拋光耗材生產(chǎn)廠家。先開始的技術(shù)還是平面拋光技術(shù)，因?yàn)槭袌?chǎng)對(duì)平板玻璃的需求，激發(fā)了玻璃平面拋光機(jī)的產(chǎn)生。不銹鋼拋光作為一種成熟的表面處理方法，得到了廣泛的應(yīng)用，拋光可進(jìn)一步提高不銹鋼的耐蝕性和光亮效果。另外望遠(yuǎn)鏡，眼鏡等圓面產(chǎn)品的市場(chǎng)，使得球面，圓面拋光機(jī)的產(chǎn)生。這些中等拋光設(shè)備是中國(guó)第一批自主研發(fā)生產(chǎn)的設(shè)備，也是中國(guó)拋光技術(shù)一次重大的飛躍。同時(shí)，拋光耗材的興起，也極大的支持了拋光設(shè)備的發(fā)展，拋光工藝的延續(xù)得到了保障。

至今，拋光技術(shù)在我國(guó)已經(jīng)達(dá)到了頂峰，各種拋光設(shè)備在中國(guó)都有生產(chǎn)，比如：超聲波拋光機(jī)，滾筒式拋光機(jī)，雙面拋光機(jī)，平面拋光機(jī)，離心式拋光機(jī)，振動(dòng)拋光機(jī).....在技術(shù)方面，中國(guó)拋光的精度已經(jīng)接近國(guó)際水平，但是在生產(chǎn)效率和穩(wěn)定性方面稍微差點(diǎn)。機(jī)械自動(dòng)化這塊，中國(guó)也在全速跟進(jìn)，期望在未來5年內(nèi)能達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)。當(dāng)拋光過程停止時(shí)，應(yīng)仔細(xì)去除所有研磨劑和潤(rùn)滑劑，保證工件表面整潔，隨后應(yīng)在工件表面噴涂一層模具防銹層。

      折彎就是將2D的平板件，折成功D的零件。其加工需要有折床及相應(yīng)折彎模具完成，它也有一定折彎順序，其原則是對(duì)下一刀不產(chǎn)生干涉的先折，會(huì)產(chǎn)生干涉的后折。

　　折彎條數(shù)：T=3.0mm以下6倍板厚計(jì)算槽寬，如：T=1.0、V=6.0F=1.8、　T=1.2、V=8、F=2.2、T=1.5、V=10、F=2.7、T=2.0、V=12、F=4.0

　　折床模具分類：鋁板折彎時(shí)，有裂紋，可增加下模槽寬式增加上模R(退火可避免裂紋

　　折彎時(shí)注意事項(xiàng)：Ⅰ圖面，要求板材厚度，數(shù)量;Ⅱ折彎方向，Ⅲ折彎角度;Ⅳ折彎尺寸;Ⅵ外觀、電鍍鉻化料件不許有折痕。折彎與壓鉚工序關(guān)系，一般情況下先壓鉚后折彎，但有料件壓鉚后會(huì)干涉就要先折后壓，又有些需折彎—壓鉚—再折彎等工序。