產(chǎn)品廣泛應用于： 電子、 精密五金、 通訊、汽車工程、航空航天、石油化工、軍事、科研、精密工程應用元件 等行業(yè)。 公司所使用的材料以進口為主，能夠?qū)Ω鞣N不同的金屬材質(zhì)進行蝕刻加 工，主要有 SUS304、SUS301奧氏體鋼不銹鋼系列、鐵素體鋼材、馬氏體鋼、非 鐵金屬、合金材料、復合材料等各種特殊材料。厚度從0.01mm—2.0mm，公差可控制在±0.005mm。蝕刻設備的維護維護蝕刻設備的最關鍵因素就是要保證噴嘴的高清潔度及無阻塞物,使噴嘴能暢順地噴射。 本公司自成立以來，勵精圖治，精益求精，憑借全體員工的誠信、務實、 創(chuàng)新的企業(yè)精神， 在技術(shù)開拓創(chuàng)新方面躋身蝕刻行業(yè)領導地位。

同樣地﹐如果蝕刻液出現(xiàn)化學不平衡﹐結(jié)渣的情況 就會愈加嚴重。 蝕刻液突然出現(xiàn)大量結(jié)渣時﹐通常是一個信號﹐表示溶液的平衡出現(xiàn)了問 題, 這時應使用較強的鹽酸作適當?shù)那鍧嵒驅(qū)θ芤哼M行補加。 另外, 殘膜也會產(chǎn)生結(jié)渣物。陰面蝕刻標牌怎么手工上漆而市場上的感光抗蝕刻油墨，由于脫墨所需的火堿濃度和溫度都很高，即使先期把油漆搞上去了，在脫墨的環(huán)節(jié)中油漆往往也會跟著油墨一起脫下來，造成前功盡棄。 量的殘膜溶于蝕刻液中﹐形成銅鹽沈淀。這表示前 道去膜工序做得不徹底, 去膜不良往往是邊緣膜與過電鍍共同造成的結(jié)果。

溫度的影響

蝕刻速率與溫度有著很大的關系, 蝕刻速率會隨著溫度升高而加快。 蝕刻液溫度低 于 40℃﹐蝕刻速率會很慢﹐而蝕刻速率過慢則會增大側(cè)蝕量﹐影響蝕刻質(zhì)量。 當溫度高于 60℃﹐蝕刻速率會明顯地增大, 但 NH3 的揮發(fā)量也大大地增加﹐導致環(huán)境污染并使蝕刻液中 化學組份比例失調(diào)。將三氯化鐵溶液倒在細長的量杯中，刺進波美計，挨著液面的數(shù)值就是它的波美濃度。 故一般應控制在 45℃~55℃為宜。

蝕刻液的調(diào)整

自動控制調(diào)整 隨著蝕刻的進行, 蝕刻液中銅的含量不斷增加﹐比重亦逐漸升高。 當蝕刻液中銅濃 度達到一定的高度時就要及時調(diào)整。 在自動控制補加裝置中﹐是利用比重控制器來控制蝕 刻液的比重。發(fā)動酸泵，讓三氯化鐵溶液在機器內(nèi)循環(huán)，調(diào)查溫度表高不能超過50度。 當比重升高時﹐會自動排放出溶液﹐并添加新的補加液﹐使蝕刻液的比重調(diào) 整到允許的范圍。 補加液要事先配制好并放入補加桶內(nèi)﹐使補加桶的液面保持在一定的高 度。

負載（Loading）-- 蝕刻速率依賴于可蝕刻表面數(shù)量，可在宏觀或微觀尺寸下。 縱橫比決定蝕刻（Aspect Ratio Dependent Etching/ARDE）--蝕刻速率決定于縱橫比。 終點（Endpoint）-- 在一個蝕刻過程中，平均膜厚被蝕刻干凈時的時間點。 光刻膠（Photo-resist）-- 作為掩膜用來圖形轉(zhuǎn)移的光敏材料。提高蝕刻質(zhì)量與加快蝕刻速率有很大的關系,蝕刻速度越快,基板在蝕刻中停留的時間越短﹐側(cè)蝕量將越小﹐蝕刻出的圖形會更清晰整齊。 分辨率（Resolution）-- 用于測試光學系統(tǒng)把相鄰的目標形成分離圖像的能力。 焦深 (Depth of focus) – 在焦平面上目標能形成影像的縱向距。 關鍵尺寸（Critical dimensi-CD）-- 一個特征圖形的尺寸，包括線寬、間隙、或者 關聯(lián)尺寸。