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AF鍍膜設(shè)備多重優(yōu)惠 至成鍍膜設(shè)備量身訂制

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發(fā)布時間:2020-08-22 07:12  









DLC真空鍍膜機(jī)有哪些種類,分別運用到哪些領(lǐng)域


DLC真空鍍膜機(jī)只是鍍膜機(jī)里面屬于金剛石行業(yè)的類型設(shè)備,真空鍍膜機(jī)在不同行業(yè)里,即有著相對應(yīng)行業(yè)不同的類型設(shè)備,自然運用也是略有不同。大家可能平時接觸比較少,聽它的名字,就只知道,一般運用到金屬行業(yè)會偏多。別看叫DLC真空鍍膜機(jī),但是它也是要細(xì)分好多種型號,不同型號的設(shè)備,鍍的產(chǎn)品是不一樣的,自然效果也就不一樣。

它應(yīng)用于五金件、玻璃工藝品、陶瓷工藝品等,如手表、手機(jī)金屬殼、潔具、刀具、模具、電子產(chǎn)品、水晶玻璃等。并且他是專業(yè)在塑料玻璃金屬等表面進(jìn)行蒸發(fā)鍍鋁、鉻、一氧化硅的專用設(shè)備,DLC真空鍍膜設(shè)備鍍出的膜層牢固且細(xì)密環(huán)保,我們?nèi)粘I钪卸茧x不開DLC真空鍍膜設(shè)備。



真空鍍膜機(jī)工作的特點


真空鍍膜機(jī)工作的特點是濺射率高、基片溫升低、膜-基結(jié)合力好、裝置性能穩(wěn)定中頻設(shè)備必須加冷卻水進(jìn)行冷卻,原因是它的頻率高電流大。電流在導(dǎo)體流動時有一個集膚效應(yīng),電荷會聚集在電導(dǎo)有表面積,這樣會使電導(dǎo)發(fā)熱,所以采用中孔管做導(dǎo)體中間加水冷卻。

冷水機(jī)能控制真空鍍膜機(jī)的溫度,以保證鍍件的高質(zhì)量。如果不配置冷水機(jī)就不能使真空鍍膜機(jī)達(dá)到、率控制溫度的目的,因為自然水和水塔散熱都不可避免地受到自然氣溫的影響,而且此方式控制是極不穩(wěn)定的。



引起鍍膜玻璃膜層不均勻原因有哪些


由于殘余氣體的存在,不但影響膜的純度及質(zhì)量,還會產(chǎn)生。所以在生產(chǎn)中要選用高純度的氣為工作氣體,嚴(yán)格控制真空室的漏氣速率,以減小殘余氣體對原片及膜層的污染。將殘余氣體的壓力控制在10Pa以下,要經(jīng)常清理加熱室、玻璃過渡室、濺射室的環(huán)境,減少擴(kuò)散泵返油對玻璃的污染。同時可適當(dāng)提高陰極的濺射功率,以增加粒子動能及擴(kuò)散能力,這將有利于清除被鍍膜玻璃表面的殘留物質(zhì),減少鍍膜玻璃的。鍍膜玻璃膜的膜層均勻度一般地講,同一基片上膜層厚薄不同,就稱之為膜層不均勻。引起鍍膜玻璃膜層不均勻的原因是多方面的。磁控濺射靶的水平磁場強(qiáng)度(B)對膜層均勻度的影響磁控濺射的關(guān)鍵參數(shù)之一是與電場垂直的水平磁場強(qiáng)度B,因為水平磁場強(qiáng)度B要求在陰極靶的表面是一個均勻的數(shù)值。而實際生產(chǎn)過程中值是隨著使用方法及時間的推移,產(chǎn)生一定的變化,而出現(xiàn)不均勻現(xiàn)象。我們從濺射過的陰極靶材的刻蝕區(qū)的變化情況就可以驗證。


電子束光學(xué)鍍膜機(jī)有哪些特點


在玻璃/PMMA/PC基片上形成光學(xué)多層薄膜的精密真空鍍膜機(jī)。將滿足客戶需求的多種元件組合在一起,可以形成品質(zhì)更加優(yōu)良的薄膜。

基片傘架采用了每分鐘可轉(zhuǎn)60轉(zhuǎn)的中心旋轉(zhuǎn)方式(公轉(zhuǎn)),減少產(chǎn)生振動和顆粒,使基片能夠穩(wěn)定旋轉(zhuǎn)。

采用坩堝上沒有極片的電子束加熱方式(2臺電子槍,10kW型)作為蒸發(fā)源,可以穩(wěn)定地形成多層膜。

采用本公司獨有的比率控制法和多點在線監(jiān)控,可以形成且穩(wěn)定的光學(xué)多層膜。

可利用操作性良好的升降機(jī)來取出基片傘架。


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