ICP光譜儀原理是什么？

ICP光譜儀又稱分析儀，廣泛為認(rèn)知的為直讀ICP光譜儀。以光電倍增管等光探測器測量譜線不同波長位置強(qiáng)度的裝置。它由一個(gè)入射狹縫，散系統(tǒng)，一個(gè)成像系統(tǒng)和一個(gè)或多個(gè)出射狹縫組成。以色散元件將輻射源的電磁輻射分離出所需要的波長或波長區(qū)域，并在選定的波長上(或掃描某一波段)進(jìn)行強(qiáng)度測定。光譜校正是儀器實(shí)際測得的波長與理論波長之間出現(xiàn)的偏差別進(jìn)行的校正，一般是通過測試一系列元素的波長來進(jìn)行校正，校正后所得數(shù)據(jù)即為對(duì)光譜彼進(jìn)行校正的校正數(shù)據(jù)。分為單色儀和多色儀兩種。

ICP光譜儀的工作原理：

根據(jù)現(xiàn)代ICP光譜儀器的工作原理，ICP光譜儀可以分為兩大類：經(jīng)典ICP光譜儀和新型ICP光譜儀。經(jīng)典ICP光譜儀器是建立在空間色散原理上的儀器;新型ICP光譜儀器是建立在調(diào)制原理上的儀器。經(jīng)典ICP光譜儀器都是狹縫ICP光譜儀器。調(diào)制ICP光譜儀是非空間分析的，它采用圓孔進(jìn)光。特別注意是，有的儀器干燥管安裝在隱蔽地方，操作不宜觀察和操作，對(duì)于這種ICP光譜儀，操作者應(yīng)該請儀器制造廠家人員來操作。根據(jù)色散組件的分析原理，ICP光譜儀器可分為：棱鏡ICP光譜儀，衍射光柵ICP光譜儀和干涉ICP光譜儀。

光學(xué)多道分析儀OMA是近十幾年出現(xiàn)的采用光子探測器(CCD)和計(jì)算機(jī)控制的新型光譜分析儀器，它集信息采集，處理，存儲(chǔ)諸功能于一體。

由于OMA不再使用感光乳膠，避免和省去了暗室處理以及之后的一系列繁瑣處理，測量工作，使傳統(tǒng)的光譜技術(shù)發(fā)生了根本的改變，大大改善了工作條件，提高了工作效率;使用OMA分析光譜，測量準(zhǔn)確迅速，方便，且靈敏度高，響應(yīng)時(shí)間快，光譜分辨率高，測量結(jié)果可立即從顯示屏上讀出或由打印機(jī)，繪圖儀輸出。它己被廣泛使用于幾乎所有的光譜測量，分析及研究工作中，特別適應(yīng)于對(duì)微弱信號(hào)，瞬變信號(hào)的檢測。ICP光譜儀的使用或管理人員不明白電子常識(shí)，不了解儀器構(gòu)造，不要容易去動(dòng)，避免發(fā)生意外，除塵應(yīng)事前停機(jī)并關(guān)掉供電電源下進(jìn)行。

ICP光源觀察方式

水平觀察：又稱為軸向觀察或端視觀測，是采用水平放置的ICP光譜儀炬管，“火焰”氣流方向與采光光路方向呈水平重合;可使整個(gè)火焰?zhèn)€個(gè)部分的光都全部通過狹縫。水平觀察方式的優(yōu)點(diǎn)是：由于整個(gè)“火焰”各個(gè)部分的光都可以被采集導(dǎo)致靈敏度高，對(duì)簡單樣品有較好的檢出限;其缺點(diǎn)：基體效應(yīng)和電離干擾大，線性范圍小，炬管溶液積炭和積鹽而沾污，需要及時(shí)清洗和維護(hù)，RF功率設(shè)置不能一般不超過1350W;使用于光譜儀水質(zhì)分析中。ICP光譜儀制樣中灰化分解法是指在高溫電阻爐中，加熱試料至(400~550）℃，使試料灰化后，再用酸溶解法。

ICP光譜儀是什么構(gòu)成的？

一臺(tái)典型的ICP光譜儀主要由一個(gè)光學(xué)平臺(tái)和一個(gè)檢測系統(tǒng)組成。包括以下幾個(gè)主要部分：

1. 入射狹縫: 在入射光的照射下形成光譜儀成像系統(tǒng)的物點(diǎn)。

2. 準(zhǔn)直元件: 使狹縫發(fā)出的光線變?yōu)槠叫泄狻Ｔ摐?zhǔn)直元件可以是一獨(dú)立的透鏡、反射鏡、或直接集成在色散元件上，如凹面光柵光譜儀中的凹面光柵。

3. 色散元件: 通常采用光柵，使光信號(hào)在空間上按波長分散成為多條光束。

4. 聚焦元件: 聚焦色散后的光束，使其在焦平面上形成一系列入射狹縫的像，其中每一像點(diǎn)對(duì)應(yīng)于一特定波長。

5. 探測器陣列：放置于焦平面，用于測量各波長像點(diǎn)的光強(qiáng)度。該探測器陣列可以是CCD陣列或其它種類的光探測器陣列。