感光(曝光)完成后就要進行下一步工作——顯影。顯影的目的是通過顯影藥將未曝光的地方沖走，經過曝光的地方固化，這樣就能確定需要被腐蝕和不被腐蝕的圖案。以便后續(xù)蝕刻加工的精度。

曝光后要檢測曝光后的圖形質量，若有遺漏需要進行人工補油補點。補油后需要進行第二次烘烤。

之后就進行顯影，確定圖形的清洗度，顯影過程中主要是控制藥的濃度，溫度，速度以及完成后的烘干溫度。

對常用金屬材料的蝕刻以現(xiàn)有技術水平完全可以做較高的蝕刻速度可達0.1m/min以上這么快的速度需要腐蝕能力更強的配方及更高的溫度，為了維持溶液成分的相對穩(wěn)定可以采用大體積或自動分析調整技術，但在這里就有一個可用于批量生產的防蝕層怎么制作的問題本書中所講的一定是批量生產而不是實驗室的工作。

所以快的蝕刻速度只是一個相對概念，是在容易控制的同時，防蝕層制作成本可接受、蝕刻深度均勻的前提下快的蝕刻速度才是有意義的。

對于深度要求淺的蝕刻材料的表面狀態(tài)及品粒組織就會對深度的均勻性產生影響，同時如果將蝕刻溶液及物理參數調到快的蝕刻速度其均勻性將無法控。付于蝕刻深度超過毫米級的要求其刻速度達到0.05mm/min時，在生產中會覺得太慢。如果對蝕刻深度要求在0.035mm時，其蝕刻速度在0.01mm/mim時會覺得太快。因為金屬蝕刻時并不是所想象的那樣同時在整個金屬表面展開。


金屬蝕刻在生活中的應用用途：石油、化工、食品、制藥用精密過濾網、過濾板、過濾筒、過濾器；電子行業(yè)用金屬漏板、蓋板、平面引腳、引線框架、金屬基片；精密光學及機械平面零件、彈簧零件；摩擦片及其它凹凸型平面零件；金屬標牌及圖案復雜的金屬裝飾板和精美工藝品。用于集成電路印刷，熒光屏電子格柵，準確過濾，微電極元件，電子行業(yè)的平面引腳、引線框架、基片等。還可制造標牌、商標及精美工藝品。