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發(fā)布時(shí)間:2021-08-11 20:32  






堿類物質(zhì)。堿類助洗劑常用的為氫氧化吶、純堿、硅酸鈉和三聚磷酸鈉。氫氧化吶和純堿作為堿劑,價(jià)格為便宜,廢水較難處理,有時(shí)因?yàn)閴A性偏強(qiáng)導(dǎo)致清洗物體受到損傷,另一方面氫氧化吶和純堿沒有乳化作用對于礦物油清洗沒有任何效果;硅酸鈉與三聚磷酸鈉既能提供堿性,又能提供一定的乳化力,廣泛的用于各種除油清洗劑中特別是對堿敏感的除油工藝。使用硅酸鈉大的缺陷是除油后若不用熱水先洗一道,直接冷水洗很難將殘留的硅酸鈉完全洗凈,殘留的硅酸鈉會與下一道工序的酸反應(yīng)生成附著牢固的硅膠,從而影響鍍層的結(jié)合力;三聚磷酸鈉則主要存在磷污染破壞環(huán)境的擔(dān)憂。





真空鍍膜磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對象。但有一共同點(diǎn):利用磁場與電子交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行,從而增大電子撞擊亞氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

不管平衡非平衡,若磁鐵靜止,其磁場特性決定一般靶材利用率小于30%。為增大靶材利用率,可采用旋轉(zhuǎn)磁場。但旋轉(zhuǎn)磁場需要旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),同時(shí)濺射速率要減小。旋轉(zhuǎn)磁場多用于大型或貴重靶。如半導(dǎo)體膜濺射。對于小型設(shè)備和一般工業(yè)設(shè)備,多用磁場靜止靶源。




硬質(zhì)涂層中的應(yīng)用:切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。

在防護(hù)涂層中的應(yīng)用:飛機(jī)發(fā)動機(jī)的葉片、汽車鋼板、散熱片等。

在光學(xué)薄膜領(lǐng)域中的應(yīng)用:增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等。

在建筑玻璃方面的應(yīng)用:陽光控制膜、低輻射玻璃、防霧防露和自清潔玻璃等。

在太陽能利用領(lǐng)域的應(yīng)用:太陽能集熱管、太陽能電池等。

在集成電路制造中的應(yīng)用:薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等。



1、東莞真空電鍍廠的真空鍍膜膜對人的危害很小的。

2、電磁輻射很小。

3、真空泵排氣要直接到室外。

4、鍍膜結(jié)束后,打開真空室時(shí),可能會有大量灰塵,注意別吸到呼吸道中。

5、不要長時(shí)間觀察等離子體束,可能對我們的眼睛有傷害。

6、如果需要加熱,注意別燙到。

7、注意工藝氣體不能泄露。

應(yīng)該是真空濺鍍,不是電鍍。這種鍍膜方式危害很小,對人體危害較大的就是打開真空室時(shí)產(chǎn)生的灰塵。




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