不銹鋼蝕刻標(biāo)牌

不銹鋼蝕刻標(biāo)牌擁有外觀漂亮，視覺效果好，成本低（不用開模）的優(yōu)點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于各類標(biāo)示，商標(biāo)展示等。利用蝕刻方法能夠在不銹鋼模具上雕刻出各種花紋圖案，提高所加工制件的裝飾和美觀性能。下面僅展示的幾個(gè)樣品。我司自成立以來，蝕刻標(biāo)牌一直是我司的重點(diǎn)業(yè)務(wù)，生產(chǎn)過的標(biāo)牌樣式不計(jì)其數(shù)，服務(wù)于多家大型外資企業(yè)，光是蝕刻標(biāo)牌類業(yè)務(wù)一項(xiàng)，年銷售額達(dá)三千萬。蝕刻生產(chǎn)的不銹鋼標(biāo)牌還可以制作出特殊的蝕刻紋理效果（如：磨砂紋，皮革紋，斜布紋，龜裂紋等任意花紋），無連接點(diǎn)蝕刻，半蝕刻，8K鏡面效果，拉絲面板效果?？晌g刻加工的材料也可以是銅板，鋁板，鎳合金，鎂鋁合金，SPCC冷軋鋼板。

一般的比重應(yīng)控制在 18~240Be。溶液 PH 值的影響

蝕刻液的 PH 值應(yīng)保持在 8.0~8.8 之間。②電泳填漆：即用本公司的標(biāo)牌蝕刻填漆機(jī)進(jìn)行填漆——適用于標(biāo)牌尺寸不大的標(biāo)牌。 若 PH 值下降到 8.0 以下時(shí), 將會(huì)對金屬抗 蝕層不利。 另一方面﹐蝕刻液中的銅不能被完全絡(luò)合成銅氨絡(luò)離子﹐使溶液在槽底形成泥 狀沈淀, 而這些沈淀物能在加熱器上結(jié)成硬皮﹐可能會(huì)損壞加熱器﹐還會(huì)使泵和噴嘴受到 堵塞﹐給蝕刻造成困難。 如果溶液 PH 值過高﹐蝕刻液中的氨過飽和﹐游離氨便會(huì)釋放到大 氣之中﹐導(dǎo)致環(huán)境污染。 再說﹐溶液的 PH 值增大也會(huì)增大側(cè)蝕的程度﹐繼而影響蝕刻的精 度。

化學(xué)蝕刻（Chemical etching）-- 氣態(tài)物質(zhì)（中性原子團(tuán)）與表面反應(yīng)， 產(chǎn)物必定易揮發(fā)，也稱為等離子蝕刻。 等離子增強(qiáng)蝕刻(Ion-enhanced etching)—單獨(dú)使用中性原子團(tuán)不能形成易揮發(fā)產(chǎn)物，具有一定 能量的離子改變襯底或產(chǎn)物；具有一定能量的離子改變襯底或產(chǎn)物層，這樣，化學(xué)反應(yīng)以后 能生成揮發(fā)性物質(zhì)，亦稱為反應(yīng)離子蝕刻（RIE） 。經(jīng)過不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，亦可以用于航空、機(jī)械、化學(xué)工業(yè)中電子薄片零件精密蝕刻產(chǎn)品的加工，特別在半導(dǎo)體制程上，蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。 濺射蝕刻（Sputter etching）--具有一定能量的離子機(jī)械的濺射襯底材料。 蝕刻速率（Etch rate）--材料的剝離速率，通常以?/min，?/sec，nm/min, um/min 為單位計(jì) 量。 各向同性蝕刻（ Isotropic etch）-- 蝕刻速率在所有方向都是相同的。