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福建大樣片磁控濺射鍍膜機(jī)原理常用指南 北京創(chuàng)世威納

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發(fā)布時(shí)間:2020-07-31 12:21  







我國真空鍍膜機(jī)行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀和前景分析

隨著工業(yè)技術(shù)的不斷發(fā)展,對材料的綜合性能要求也不斷提高,單一材料性能已不能滿足某些特定環(huán)境下工作機(jī)械的性能要求。國內(nèi)真空離子鍍膜機(jī)經(jīng)過幾十年的發(fā)展,相對于國外高1端鍍膜設(shè)備而言,在自動(dòng)化程度與技術(shù)上取得了一定的進(jìn)步,但在鍍膜產(chǎn)品穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性方面尚需提升,高1端設(shè)備仍依賴進(jìn)口。同時(shí)多弧離子鍍膜機(jī)低端產(chǎn)品市場存在供大于求的情況,價(jià)格競爭較為激烈。但有一共同點(diǎn):利用磁場與電場交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行,從而增大電子撞擊Ar產(chǎn)生離子的概率。

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我國鍍膜機(jī)械,經(jīng)過了幾十年發(fā)展,形成了門類齊全、布局合理,品種配套,真空鍍膜技術(shù)水平與鍍膜工業(yè)發(fā)展基本適應(yīng)的體系,真空鍍膜設(shè)備已經(jīng)不能再叫新行業(yè)了,其是一個(gè)有創(chuàng)新能力的成熟行業(yè),鍍膜技術(shù)從重污染轉(zhuǎn)為輕污染直至以后的無污染,創(chuàng)新是前提,隨著更新型節(jié)能環(huán)保的真空機(jī)械設(shè)備研發(fā)必將改變整個(gè)工業(yè)。為此前處理的過程包括機(jī)械清洗(打磨、毛刷水洗、去離子水沖洗、冷熱風(fēng)刀吹凈)、烘烤、輝光等離子體轟擊等。

創(chuàng)世威納以誠信為首,服務(wù)至上為宗旨。公司生產(chǎn)、銷售離子束刻蝕機(jī),公司擁有強(qiáng)大的銷售團(tuán)隊(duì)和經(jīng)營理念。想要了解更多信息,趕快撥打圖片上的熱線電話!










直流濺射法

濺射過程中涉及到復(fù)雜的散射過程和多種能量傳遞過程:入射粒子與靶材原子發(fā)生彈性碰撞,入射粒子的一部分動(dòng)能會傳給靶材原子;某些靶材原子的動(dòng)能超過由其周圍存在的其它原子所形成的勢壘(對于金屬是5-10 eV),從而從晶格點(diǎn)陣中被碰撞出來,產(chǎn)生離位原子;這些離位原子進(jìn)一步和附近的原子依次反復(fù)碰撞,產(chǎn)生碰撞級聯(lián);但是,利用這種方法沉積薄膜的初期存在著濺射速率低,成膜速度慢,并且必須在裝置上設(shè)置高壓和通入惰性氣體等一系列問題。當(dāng)這種碰撞級聯(lián)到達(dá)靶材表面時(shí),如果靠近靶材表面的原子的動(dòng)能大于表面結(jié)合能(對于金屬是1-6eV),這些原子就會從靶材表面脫離從而進(jìn)入真空。








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