離子鍍，是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)離子化，在氣體離子或蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用下，把蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物蒸鍍?cè)诠ぜ?。離子鍍把輝光放電、等離子技術(shù)與真空蒸鍍技術(shù)結(jié)合在一起，不僅明顯地提高了鍍層的各種性能，而且，大大擴(kuò)充了鍍膜技術(shù)的應(yīng)用范圍。

離子鍍除兼有真空濺射的優(yōu)點(diǎn)外，還具有膜層的附著力強(qiáng)、繞射性好、可鍍材料廣泛等優(yōu)點(diǎn)。例如，利用離子鍍技術(shù)可以在金屬、塑料、陶瓷、玻璃、紙張等非金屬材料上，涂覆具有不同性能的單一鍍層、合金鍍層、化合物鍍層及各種復(fù)合鍍層，而且沉積速度快（可達(dá)755m/min），鍍前清洗工序簡(jiǎn)單，對(duì)環(huán)境無污染，因此，近年來在國(guó)內(nèi)外得到了迅速的發(fā)展。

濺射是物理氣相沉積技術(shù)的另一種方式，有人要問了濺射工藝是怎么實(shí)現(xiàn)的呢？

濺射的過程是由離子轟擊靶材表面，使靶材材料被轟擊出來的技術(shù)。整個(gè)過程是在真空腔體中完成的。濺射開始時(shí)將氣充入真空腔體中形成低壓氣氛圍，再通過使用高電壓，產(chǎn)生輝光放電，加速離子到靶材表面。離子將靶材材料從表面轟擊（濺射）出來，在靶材前面的被涂層工件上沉積下來，這整個(gè)過程就好像是在打臺(tái)球。

隨著市場(chǎng)和研究人員的要求，隨著基于傳統(tǒng)工藝的新系統(tǒng)的出現(xiàn)，新的涂料性能得到了發(fā)展。即使通過蒸發(fā)工藝獲得的沉積速率是理想的，但事實(shí)是，濺射沉積技術(shù)在質(zhì)量和沉積速率方面取得了無疑的進(jìn)步，響應(yīng)了對(duì)此領(lǐng)域感興趣的行業(yè)和研究人員的需求，甚至用作中間層，用于通過化學(xué)氣相沉積（CVD）獲得的其他涂層。

CVD是另一種在真空下沉積的方法，并且是使待沉積材料中的揮發(fā)性化合物與其他氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的過程，以產(chǎn)生沉積在基材上的非揮發(fā)性固體。