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PVD鍍膜膜層厚度 真空鍍膜加工

PVD鍍膜膜層厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.3μm?～?5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm?～?1μm?，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，鍍后不須再加工。

真空鍍膜廠家 表面處理工藝后鋁型材的特點(diǎn)

磨砂面料型材：磨砂面鋁型材避免了光亮的鋁合金型材在建筑裝飾中存在環(huán)境、條件下會形成光的干擾的缺點(diǎn)，它的表面如錦緞一樣細(xì)膩柔和，很受市場的青睞，但現(xiàn)有的磨砂材須克服表面砂粒不均勻，并能看到模紋的不足。

當(dāng)光線進(jìn)入不同傳遞物質(zhì)時（如由空氣進(jìn)入玻璃），大約有5% 會被反射掉，在光學(xué)中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達(dá)30%至40%?，F(xiàn)代光學(xué)透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至 1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至 0.25%，所以整個如果加以適當(dāng)鍍膜，光線透穿率可達(dá) 95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍(lán)紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色 。

  真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。

真空鍍膜應(yīng)用是真空應(yīng)用中的一個大分支，在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機(jī)械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分廣泛的應(yīng)用