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真空鍍膜系統(tǒng)公司多重優(yōu)惠【艾明坷】

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發(fā)布時間:2020-12-16 18:12  






ST系列鍍膜機

ST系列鍍膜機系我司標(biāo)準(zhǔn)化產(chǎn)品,滿足大部分實驗室科研需求,豐富的可選配置也可響應(yīng)您的特殊需要。特點:1、集成一體化結(jié)構(gòu)。

2、極限真空度高,可達7×10-5Pa,可保證更高的鍍膜純凈度,提高鍍膜質(zhì)量。

3、從大氣到工作背景真空(7×10-4Pa)時間短,30分鐘左右(充干燥氮氣)。 系統(tǒng)停泵關(guān)機12小時后真空度:≤8Pa。

4、整機采用柜式結(jié)構(gòu),密封性能好,防塵防水,安全。

5、磁控、熱蒸發(fā)多種鍍膜方式可選。

本信息由艾明坷為您提供,如果您想了解更多產(chǎn)品信息,您可撥打圖片上的電話咨詢,艾明坷竭誠為您服務(wù)!


鍍膜機操作程序

真空鍍膜機操作程序具體操作時請參照該設(shè)備說明書和設(shè)備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說明。

① 檢查真空鍍膜機各操作控制開關(guān)是否在'關(guān)'位置。

② 打開總電源開關(guān),設(shè)備送電。

③ 低壓閥拉出。開充氣閥,聽不到氣流聲后,啟動升鐘罩閥,鐘罩升起。

④ 安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位,保證無任何雜質(zhì)污物。

⑤ 落下鐘罩。

⑥ 啟動抽真空機械泵。

艾明坷科技有限公司專業(yè)生產(chǎn)手套箱,如您想了解更多您可撥打圖片上的電話進行咨詢!


真空鍍膜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域

在平板顯示器中

所有各類平板顯示器都要用到各種類型的薄膜,而且,幾乎所有類型的平板顯示器件都需要使用ITO膜,以滿足透明電器的要求。可以毫不夸張的說,沒有薄膜技術(shù),就沒有平板顯示器件。

在太陽能利用方面

當(dāng)需要有效地利用太陽熱能時,就要考慮采用對太陽光線吸收較多、而對熱輻射等所引起的損耗較小的吸收面。太陽光譜的峰值大約在波長為2-20μm之間的紅外波段。如需了解更多真空鍍膜的相關(guān)信息,歡迎關(guān)注艾明坷網(wǎng)站或撥打圖片上的電話詢。由于太陽輻射與熱輻射光譜在波段上有差異,因此,為了有效地利用太陽熱能,就必須考慮采用具有波長選擇特性的吸收面。

理想的選擇吸收面,是太陽輻射光譜的波段(可見光波段)吸收率(α)為1,在熱輻射波段(紅外波段)輻射率(ε)為0。

在防偽技術(shù)中

防偽膜種類很多,從使用方法可分為反射式和透射式;從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜式或間接鍍膜剪貼式。

在飛機防護涂層方面

飛機的鈦合金緊固件,原來采用電鍍方法鍍鎘。但在鍍鎘中含有氫,所以在飛行過程中,受到大氣、海水的腐蝕,鍍層上容易產(chǎn)生“鎘脆”,甚至引起“空難”。

1964年,采用離子鍍方法在鈦合金緊固件上鍍鋁,解決了飛機零件的“鎘脆”問題。在離子鍍技術(shù)中,由于給工件施加負偏壓,可以形成“偽擴散層”、細化膜層組織,因此,可以顯著提高膜層的耐腐蝕性能。

在光學(xué)儀器中

人們熟悉的光學(xué)儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀,以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等,它們都離不開鍍膜技術(shù),鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

在信息存儲領(lǐng)域中

薄膜材料作為信息記錄于存儲介質(zhì),有其得天獨厚的優(yōu)勢:

由于薄膜很薄,可以忽略渦流損耗;磁化反轉(zhuǎn)極為迅速;與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀態(tài)容易保持等。

為了更精密地記錄與存儲信息,必然要采用鍍膜技術(shù)。

在傳感器方面

在傳感器中,多采用那些電氣性質(zhì)相對于物理量、化學(xué)量及其變化來說,極為敏感的半導(dǎo)體材料。此外,其中,大多數(shù)利用的是半導(dǎo)體的表面、界面的性質(zhì),需要盡量增大其面積,且能工業(yè)化、低價格制作,因此,采用薄膜的情況很多。

在集成電路制造中

晶體管路中的保護層(SiO2、Si3N4)、電極管線等,多是采用CVD技術(shù)、PVCD技術(shù)、真空蒸發(fā)金屬技術(shù)、磁控濺射技術(shù)和射頻濺射技術(shù)。可見,氣相沉積是制備集成電路的核心技術(shù)之一。




常見的真空鍍膜材料


氧化物一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5,五氧化二鈮Nb2O5,五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3,氧化鋅ZnO等高純氧化物鍍膜材料。

其它化合物硫化鋅ZnS,硒化鋅ZnSe,氮化鈦TiN,碳化硅SiC,鈦酸鑭LaTiO3,鈦酸鋇BaTiO3,鈦酸鍶SrTiO3,鈦酸鐠PrTiO3,硫1化鎘CdS等真空鍍膜材料。

金屬鍍膜材料高純鋁Al,高純銅Cu,高純鈦Ti,高純硅Si,高純金Au,高純銀Ag,高純銦In,高純鎂Mg,高純鋅Zn,高純鉑Pt,高純鍺Ge,高純鎳Ni,高純金Au,金鍺合金AuGe,金鎳合金AuNi,鎳鉻合金NiCr,鈦鋁合金TiAl,鋅鋁合金ZnAl,鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料。了解被抽氣體成分,氣體中含不含可凝蒸氣,有無顆?;覊m,有無腐蝕性等?!?



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