真空蒸鍍可應(yīng)用在哪些產(chǎn)業(yè)?主要產(chǎn)業(yè)大多應(yīng)用于裝飾、光學(xué)、電性、機(jī)械及防蝕方面等，現(xiàn)就比較常見者分述如下：1.鏡片的抗反射鍍膜(MgO、MgF2、SiO2等)，鏡片置于半球支頂，一次可鍍上百片以上。2.金屬、合金或化合物鍍膜，應(yīng)用于微電子當(dāng)導(dǎo)線、電阻、光電功能等用途。3.鍍鋁或鉭于絕緣物當(dāng)電容之電極。4.特殊合金鍍膜MCrAlY具有耐熱性抗yang化性，耐溫達(dá)1100OC，可應(yīng)用須耐高溫環(huán)境的工件，如高速切削及成形加工、渦輪引擎葉片等。5.鍍金屬于玻璃板供建筑物之裝飾及防紫外線。

PVD(物理氣相沉積)技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對于PVD技術(shù)的三個分類，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)。近十多年來，真空離子鍍技術(shù)的發(fā)展是zui快的，它已經(jīng)成為了當(dāng)代zui先進(jìn)的表面處理方法之一。物理氣相沉積是一種物理氣相反應(yīng)生長法，沉積過程是在真空或低氣氣體放電條件下，涂層物質(zhì)源是固態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過“蒸發(fā)或?yàn)R射”后，在零件表面生成與基材性能完全不同的新的固態(tài)物質(zhì)涂層。

PVD鍍膜膜層的特點(diǎn)：采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn)，膜層的壽命更長；同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。PVD鍍膜能夠鍍出的膜層種類：PVD鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN),以及氧化物膜（如TiO等)。

熱鍍鋅鍍層厚度的作用和影響

熱鍍鋅鍍層的厚度決定了鍍件的防腐蝕性能。詳細(xì)討論請參見附件中由美國熱鍍鋅協(xié)會提供的相關(guān)數(shù)據(jù)。用戶可以選擇高于或低于標(biāo)準(zhǔn)的鋅鍍層厚度。

對于表面光滑的3mm以下薄鋼板，工業(yè)生產(chǎn)中得到較厚的鍍層是困難的，另外，與鋼材厚度不相稱的鋅鍍層厚度會影響鍍層與基材的結(jié)合力以及鍍層外觀質(zhì)量。過厚的鍍層會造成鍍層外觀粗糙，易剝落，鍍件經(jīng)不起搬運(yùn)和安裝過程中的碰撞。

鋼材中如果存在較多的活性元素硅和磷，工業(yè)生產(chǎn)中得到較薄的鍍層也十分困難，這是由于鋼中的硅含量影響鋅鐵間的合金層生長方式，會使ζ相鋅鐵合金層迅速生長并將ζ相推向鍍層表面，致使鍍層表面粗糙無光，形成附著力差的灰暗鍍層。