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不銹鋼深孔拋光報(bào)價(jià)來(lái)電咨詢 東莞棫楦金屬材料

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發(fā)布時(shí)間:2020-11-02 10:43  







棫楦金屬材料有限公司成立于2010年,公司具有全自動(dòng)電解出產(chǎn)線4條,手動(dòng)電解出產(chǎn)線3條,首要以不銹鋼、不銹鐵電解拋光、鈍化加工為主,很大工件電解拋光規(guī)范:2300*1100*1000,所加工產(chǎn)品首要用于精密電子配件、家私、餐具方面。加工后的產(chǎn)品完全可以經(jīng)過(guò):ROHS、FDA、QS等規(guī)范查驗(yàn)。區(qū)別于傳統(tǒng)的純機(jī)械或純化學(xué)的拋光方法,CMP通過(guò)化學(xué)的和機(jī)械的綜合作用,從而避免了由單純機(jī)械拋光造成的表面損傷和由單純化學(xué)拋光易造成的拋光速度慢、表面平整度和拋光一致性差等缺點(diǎn)。

微觀拋光或光澤化兩種拋光作用是不同的,以鋼在硝l酸磷酸型拋光液中的拋光為例說(shuō)明。在拋光過(guò)程中鋼的電極電位和溶解速度隨硝l酸濃度的變化情況如圖4-2所示。即隨著硝l酸濃度的增加,鋼材的電極電位也逐漸提高,同時(shí)溶解速度隨之減小。鋼的平滑化是由低電位區(qū)域的溶解作用形成的,而光澤化則是由高電位區(qū)域的溶解作用形成的。鋼表面電位的升高是由表面形成的一些穩(wěn)定的氧化膜固體所致,正是由于這種穩(wěn)定氧化膜的形成,使零件光澤化。而平滑化可能是由金屬離子或溶解生成物的擴(kuò)散層導(dǎo)致的。使用干磨機(jī)配合P3000金字塔砂碟和干磨軟墊過(guò)細(xì)打磨過(guò)的漆面,在砂碟和漆面上噴灑一定量的水,以較快的移遮蔽保護(hù)動(dòng)速度,按上下左右順序各兩道打磨整個(gè)漆面。


棫楦金屬材料有限公司成立于2010年,公司具有全自動(dòng)電解出產(chǎn)線4條,手動(dòng)電解出產(chǎn)線3條,首要以不銹鋼、不銹鐵電解拋光、鈍化加工為主,很大工件電解拋光規(guī)范:2300*1100*1000,所加工產(chǎn)品首要用于精密電子配件、家私、餐具方面。加工后的產(chǎn)品完全可以經(jīng)過(guò):ROHS、FDA、QS等規(guī)范查驗(yàn)。為了獲得鏡面效果,拋光時(shí)所使用的工具,如油石、砂紙等,必須是高質(zhì)量的,這樣才能大大提升成功率。

區(qū)別于傳統(tǒng)的純機(jī)械或純化學(xué)的拋光方法,CMP通過(guò)化學(xué)的和機(jī)械的綜合作用,從而避免了由單純機(jī)械拋光造成的表面損傷和由單純化學(xué)拋光易造成的拋光速度慢、表面平整度和拋光一致性差等缺點(diǎn)。它利用了磨損中的“軟磨硬”原理,即用較軟的材料來(lái)進(jìn)行拋光以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的表面拋光。第二階段是晶界附近的結(jié)晶不完整部分的平滑化,去除微小的不平,在0。

CMP拋光液:CMP拋光液是以高純硅粉為原料,經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品,廣泛用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光。


您知道不銹鋼電解拋光是什么嗎?定義

利用電解化學(xué)反應(yīng)變化使零件表面平整光,不銹鋼電解拋光是以被拋工件為陽(yáng)極,不溶性金屬為陰極,兩極同時(shí)浸入到電解槽中,通以直流電而產(chǎn)生有選擇性的陽(yáng)極溶解,工件表面逐漸整平,從而達(dá)到工件增大表面光亮度的效果。

流體拋光,是依靠高速流動(dòng)的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達(dá)到拋光的目的。常用方法有:磨料噴射加工、液體噴射加工、流體動(dòng)力研磨等。

模具拋光,流體動(dòng)力研磨是由液壓驅(qū)動(dòng),使攜帶磨粒的液體介質(zhì)高速往復(fù)流過(guò)工件表面。介質(zhì)主要采用在較低壓力下流過(guò)性好的特殊化合物(聚合物狀物質(zhì))并摻上磨料制成,磨料可采用碳化硅粉末。



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