不同應用時輸出鏡有不同透過率的要求，因此必須采用光學鍍膜方法。對于CO2激光燈中紅外線波段，常用的鍍膜材料有氟化釔、氟化鐠、鍺等；對于YAG激光燈近紅外波段或可見光波段，常用的鍍膜材料有硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯等。除了高反膜、增透膜之外，還可以鍍對某波長增反射、對另一波長增透射的特殊膜，如激光倍頻技術(shù)中的分光膜等。光學鍍膜基本原理光的干涉在薄膜光學中廣泛應用。光學薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜，一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率，以滿足不同的需要。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

測試方法：連續(xù)對鍍膜室抽氣24h這一時間段之間，測定出過程中的壓力zui低值，則定為該設(shè)備的極限壓力。如果壓力變化值在0.5h內(nèi)沒有超過5％的波動，則取zui高測量表讀數(shù)值作為極限壓力值。二、鍍膜室抽氣時間的測定1、試驗條件：與上述極限壓力測定的試驗條件的（1）~（4）相同。2、測試方法：在連續(xù)抽氣的前提之下，待至鍍膜室內(nèi)達到極限壓力，再將鍍膜室打開15min，然后將鍍膜室關(guān)閉，再次將鍍膜室抽氣至規(guī)定的壓力標準，此間這段所需的時間，就是該設(shè)備的抽氣時間。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

有70多種元素、50多種無機化合物材料和多種合金材料可供選擇。濺射鍍sputteringdepsitsnn用荷能粒子(通常為氣體止離子)轟擊靶材，使靶材表面部分原子逸出的現(xiàn)象r.若把零件放在靶材附近酌適當位置上，則從靶材飛出的原子便會沉積到零件表面而形成鍍層。它特另}l適用于高熔點金屬、合金、半導體和各類化合物的鍍覆二主要用于制備電子元件上所需的各種鍍層。也可用來鍍覆氮化欽仿金鍍層和在切削刀具上鍍覆氮化欽、碳化欽等硬質(zhì)鍍層，以提高其使用壽命和切削功能。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制