靶材輸入電流及濺射時間可以控制，容易得到高精度的膜厚。較其它制程利于生產(chǎn)大面積的均一薄膜。濺射粒子幾不受重力影響，靶材與基板位置可自由安排。基板與膜的附著強度是一般蒸鍍膜的10倍以上，且由于濺射粒子帶有高能量，在成膜面會繼續(xù)表面擴散而得到硬且致密的薄膜，同時此高能量使基板只要較低的溫度即可得到結晶膜。薄膜形成初期成核密度高，可生產(chǎn)10nm以下的極薄連續(xù)膜。靶材的壽命長，可長時間自動化連續(xù)生產(chǎn)。靶材可制作成各種形狀，配合機臺的特殊設計做更好的控制及比較有效率的生產(chǎn)。

磁控濺射真空鍍膜機導致不均的因素哪些？專業(yè)從事這方面工作的朋友其實還是比較的了解的，它主要可以分為以下幾個因素就是：真空狀態(tài)、磁場、亞氣。

磁場是正交運作的，但你要將磁場強度做到一定均勻是不可能的，一般磁場強的地方，成膜厚度就大，相反就小，所以會造成膜層厚度的不一致，不過在生產(chǎn)過程中，由于磁場的不均勻導致的膜層不均勻的情況卻不是常見的，為什么呢？

真空電鍍的做法也是相當復雜，一般是在素材上先噴一層底漆，再做電鍍．由于素材是塑料件，在注塑時會殘留空氣泡，有機氣體，而在放置時會吸入空氣中的水分．另外，由于塑料表面不夠平整，直接電鍍的工件表面不光滑，光澤低，金屬感差，并且會出現(xiàn)氣泡，水泡等不良狀況．噴上一層底漆以后，會形成一個光滑平整的表面，并且杜絕了塑料本身存在的氣泡水泡的產(chǎn)生，使得電鍍的效果得以展現(xiàn)。