磁控濺射鍍膜設(shè)備鍍膜優(yōu)勢

磁控濺射鍍膜機有很多種類型，有中頻的，也有直流的。在生活中應(yīng)用也是非常的廣泛，如：手提電腦、手機殼、電話、無線通訊、試聽電子、工具、表殼、手機殼、五金等。它的優(yōu)勢也是非常的凸顯.

磁控濺射鍍膜設(shè)備配置了等離子體處理裝置，磁控濺射陰極和電阻蒸發(fā)裝置等，設(shè)備沉積速率快，鍍層附著力好，鍍層細膩致密，表面光潔度高，且均勻性一致性良好;該機實現(xiàn)鍍膜工藝全自動化控制，裝載量大，工作可靠，合格率高，生產(chǎn)成本低，綠色環(huán)保。該設(shè)備主要廣泛應(yīng)用于電腦殼、手機殼、家用電器等行業(yè)，可鍍制金屬膜、合金膜、復(fù)合膜層、透明(半透明)膜、不導(dǎo)電膜、EMI電磁屏蔽膜等。

磁控濺射鍍膜機將磁控濺射技術(shù)和真空蒸發(fā)技術(shù)結(jié)合在同一真空鍍膜設(shè)備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子賤出并部分離化沉積在基材成膜，同時又可利用在真空中以電阻加熱將金屬鍍料熔融并讓其氣化再沉積在基材上成膜，增加了設(shè)備的用途和靈活性。該設(shè)備應(yīng)用于手機殼等塑料表面金屬化，應(yīng)用于不導(dǎo)電膜和電磁屏蔽膜沉積。

真空PVD鍍膜機涂層在中有哪些應(yīng)用?

PVD涂層可提供更好的邊緣保持力，因此涂層手術(shù)器械仍保持清晰。對于其他設(shè)備，它們可以減少配套不銹鋼部件之間的磨損，并有助于防止氧化和腐蝕。通常是四種PVD涂層。的是氮化鈦（TiN），其厚度范圍為0.0001至0.0002英寸，維氏硬度范圍為2,400至2,600Hv，以及金色。第二種常見的涂層是鋁鈦氮化物（AlTiN），通常稱為黑色氮化物或黑色鈦涂層。它的厚度范圍為0.0001至0.0002英寸，硬度范圍為4,000至4,200Hv，炭黑色表面。另外兩種涂料是氮化鉻（CrN）和Alpha。CrN的厚度范圍為0.0001至0.0005英寸，硬度范圍為2,200至2,400Hv，銀色表面處理。Alpha是一種多層涂層，其頂層具有氮化鋯（ZrN）并產(chǎn)生銀-金色。它的厚度范圍為0.0001至0.0002英寸，硬度，范圍為4,400至4,600Hv。由于其更高的硬度，潤滑性和耐磨性，這種涂層可以比TiN長兩到四倍。

真空鍍膜設(shè)備需要的環(huán)境要求

真空鍍膜設(shè)備需要的環(huán)境要求 真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作，因此該設(shè)備要滿足真空對環(huán)境的要求。真空對環(huán)境的要求，一般包括真空設(shè)備對所處實驗室（或車間）的溫度、空氣中的微粒等周圍環(huán)境的要求，和對處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個方面。 這兩個方面是有密切聯(lián)系的。周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用；而真空設(shè)備的真空室或裝入里面的零件是否清洗，又直接影響設(shè)備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵，在真空室沒有經(jīng)過清洗的情況下用油封機械泵去抽氣，要達到預(yù)期的真空度很難的。眾所周，油封式機械泵不宜抽除對金屬有腐蝕性、對真空油其反應(yīng)的以含有顆粒塵埃的氣體。水蒸氣為可凝性氣體，當大量抽除可凝性氣體時，對泵油的污染會更加嚴重，結(jié)果使泵的極限真空下降，破壞了泵的抽氣性能。