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高純供氣系統(tǒng)價(jià)格多重優(yōu)惠

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發(fā)布時(shí)間:2020-08-18 13:06  






實(shí)驗(yàn)供氣系統(tǒng)使用安全注意事項(xiàng)

1.易1燃易1爆氣體:此類(lèi)氣體只要形成了可燃?xì)怏w爆1炸混合氣和達(dá)到著火溫度。便會(huì)發(fā)生燃燒爆1炸事故因此在可燃?xì)怏w入口處、氣體鋼瓶存放間、潔凈室

內(nèi)使用可燃?xì)怏w處、敷設(shè)可燃?xì)怏w的管廊或技術(shù)夾層以及可能聚集可燃?xì)怏w的場(chǎng)所均應(yīng)設(shè)置可燃?xì)怏w報(bào)警裝置。具體要求如下:

①可燃?xì)怏w比空氣輕者,報(bào)警裝置設(shè)置在所處場(chǎng)所的頂部。

②可燃?xì)怏w比空氣重者,報(bào)警裝置設(shè)置在所處場(chǎng)所的1低處。

③可燃?xì)怏w的報(bào)警裝置應(yīng)與相應(yīng)的事故排風(fēng)裝置設(shè)電氣連鎖,當(dāng)空氣中的可燃?xì)怏w濃度達(dá)到規(guī)定值時(shí),事故排風(fēng)裝置自動(dòng)開(kāi)啟,同時(shí)向潔凈廠房的消防安全值班室發(fā)出報(bào)警信號(hào)。

④為防止倒流回火應(yīng)在用氣設(shè)備的支管上設(shè)置阻火器,在排入大氣的排氣管道上,為防止排氣時(shí)突遇雷電襲1擊阻止火焰蔓延至可燃?xì)怏w管道引發(fā)燃燒爆1炸事故,必須在排氣管道上設(shè)置阻火器。

⑤可燃?xì)怏w在適當(dāng)?shù)墓艿捞帒?yīng)做接地,但接地電阻應(yīng)符合相關(guān)規(guī)定。

⑥各種可燃?xì)怏w管道系統(tǒng)均應(yīng)設(shè)置能引入氮?dú)獾榷栊詺怏w的接口及相應(yīng)的檢測(cè)口,以便在可燃?xì)怏w供應(yīng)系統(tǒng)使用前后或檢修動(dòng)火前后對(duì)其系統(tǒng)進(jìn)行吹掃置換,但是惰性氣體吹掃接口在正常運(yùn)行中不能與氣體鋼瓶或惰性氣體管道相通,以避免影響氣體質(zhì)量。

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大宗特氣供氣系統(tǒng)介紹

大宗特氣供氣系統(tǒng)主要針對(duì)大規(guī)模量產(chǎn)的8-12英寸(1英寸=25.4毫米) 超大規(guī)模集成電路廠(氣體種類(lèi)包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等),100MW以上的太陽(yáng)能電池生產(chǎn)線(xiàn)(氣體種類(lèi)包括NH3),發(fā)光二極管的磊晶工序線(xiàn)(氣體種類(lèi)包括NH3)、5代以上液晶顯示器工廠(氣體種類(lèi)包括4、3、NF3)、光纖(氣體種類(lèi)包括SiCl4)、硅材料外延生產(chǎn)線(xiàn)(氣體種類(lèi)包括HCL)等行業(yè)。它們的投資規(guī)模巨大,采用1先進(jìn)的工藝制程設(shè)備,用氣需求量大,對(duì)穩(wěn)定和不間斷供應(yīng)、純度控制和安全生產(chǎn)提出嚴(yán)格的要求。試驗(yàn)室供氣現(xiàn)狀目前我們可以用采用高壓氣瓶、液體杜瓦瓶、集中供氣系統(tǒng)完成上述工作。

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試驗(yàn)室集中供氣系統(tǒng)的特點(diǎn)

1、特點(diǎn):試驗(yàn)室要求使用載氣流量恒定、氣體純度高,為試驗(yàn)室選用的分析設(shè)備提供量值和壓力穩(wěn)定的氣體。

2、經(jīng)濟(jì)性:建一個(gè)集中的氣瓶間可以節(jié)省有限的試驗(yàn)室空間,更換氣瓶時(shí)不需要切斷氣體,保證氣體的連續(xù)供應(yīng)。使用者只需管理較少的氣瓶,支付較少的氣瓶租金,因?yàn)槭褂猛粴怏w的所有使用點(diǎn)來(lái)自于同一個(gè)氣源。此種供應(yīng)方式終會(huì)減少運(yùn)輸費(fèi)用,減少退還給氣體公司的空瓶中的余氣量,以及良好的氣瓶管理。氦質(zhì)譜檢漏儀隨著科技的迅猛發(fā)展,氦質(zhì)譜檢漏儀及其應(yīng)用技術(shù)也在不斷發(fā)展和究善。

3、使用率:集中管道供應(yīng)系統(tǒng)可以將氣體出口放置在使用點(diǎn)處,這樣的話(huà)可以更合理的設(shè)計(jì)工作場(chǎng)所。

4、安全性:保證其儲(chǔ)存和使用的安全性。保障分析測(cè)試人員在實(shí)驗(yàn)中免受有毒有害氣體的侵害。

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高純氣體的輸送管路系統(tǒng)

隨著微電子工業(yè)的發(fā)展,超大規(guī)模集成電路制造的硅片尺寸越做越大,要求半導(dǎo)體制造工藝中的氣體品質(zhì)相應(yīng)越來(lái)越高,對(duì)氣體中雜質(zhì)和露1點(diǎn)要求極為嚴(yán)格,需要達(dá)到ppb、ppt級(jí),塵埃粒徑求控制小于0.1~0.05m的微粒,因此對(duì)高純氣體的輸送管路系統(tǒng)提出了非常高的要求 。系統(tǒng)采用一拖一、一拖多、多拖一和多拖多的管道式輸氣方式,在一拖多時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn)分段控制和在多拖一和多拖多時(shí)能夠?qū)崿F(xiàn)切換控制。



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