公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

光刻掩模版通常用石英玻璃做為化學(xué)反應(yīng)，選用方解石是因為其的近紫外線穿透率。掩模版遮光一部分用Cr，因此有時候也叫鉻板。選用燈的g線應(yīng)i線，在于你常用的光刻膠，每個光刻膠產(chǎn)品介紹都是列舉其所比較敏感的納米段。 

什么是光刻掩模板

　在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)，稱為光刻掩模版。

　　半導(dǎo)體集成電路制作過程通常需要經(jīng)過多次光刻工藝，在半導(dǎo)體晶體表面的介質(zhì)層上開鑿各種摻雜窗口、電極接觸孔或在導(dǎo)電層上刻蝕金屬互連圖形。光刻工藝需要一整套（幾塊多至十幾塊）相互間能套準(zhǔn)的、具有特定幾何圖形的光復(fù)印掩蔽模版。

烤版如需要烤版，烤版時要注意：①首先要選好烤版膠，烤版膠不能太臟。如用固體桃膠配制，一定要用熱水溶膠，膠要徹底溶開、過濾再用。②把適量的烤版膠涂在版面上，用海綿將版面涂擦均勻。此后用特定溶劑洗去被照射或者未被照射的膠，電路圖就印到硅片上。③烤版膠不能用干布擦拭。④版材在烘版箱中烘烤，圖像區(qū)域會均勻變色。不同的PS版，烘烤時間、溫度及終顏色會不一致，所以需通過試驗確定烤版條件。

烤版時還要注意：①烤版箱內(nèi)的紅外燈管一定要橫向排列，如縱向排列，往往導(dǎo)致印版瓦楞狀變形而影響使用。②烤版膠濃度要合適，如烤版膠太稠，烤版效果和上墨效果也不會令人滿意；如烤版膠太稀，烤出的版容易上臟。光刻掩膜版（又稱光罩，英文為MaskReticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。③烤版溫度不能過高，溫度過高也會導(dǎo)致鋁版基韌化和發(fā)軟，樹脂層焦化，影響耐印力。

光刻工藝

是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個重要步驟，利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫器件結(jié)構(gòu)，再通過刻蝕工藝將掩膜上的圖形轉(zhuǎn)換到襯底上。原位芯片目前掌握電子束光刻，步進(jìn)式光刻，接觸式光刻等多種光刻技術(shù).

光學(xué)掩模板在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)。缺點(diǎn)：批量要求大，每次修改程序就需要重新做光刻板，不同程序不能同時生產(chǎn)，供貨周期長。掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng)）等。