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高純氬氣的作用有哪些?
1、高純氬氣在半導(dǎo)體材料工業(yè)生產(chǎn)中作為生產(chǎn)制造高純硅和鍺晶體的維護(hù)汽體。
2、可作為系統(tǒng)軟件清理、屏蔽掉和增加用的稀有氣體。
3、在有機(jī)化學(xué)液相堆積、磁控濺射和淬火等加工工藝中有一定的運(yùn)用。
4、高純氬也可做為色譜分析載氣。
5、在鈦、鈷和別的特異性金屬材料的生產(chǎn)制造中作為屏蔽掉氣。在灰黑色冶金工業(yè)中用以吹煉特殊鋼材。
6、在冶金行業(yè)層面,氧、氬吹煉是生產(chǎn)制造鋼的關(guān)鍵對(duì)策,每煉1噸鋼的氬氣使用量為1~3M3。
7、對(duì)鈦、鋯、鍺等獨(dú)特金屬的冶煉,及其電子工業(yè)中也必須用氬作保護(hù)氣。
8、氬被普遍用于填充弧光燈、熒光燈管和整流管。
9、電焊焊接保護(hù)氣。
氣體的標(biāo)準(zhǔn)有以下幾點(diǎn):
一、規(guī)范試品能夠 用于鑒定確定規(guī)范解析檢驗(yàn)方式 的實(shí)效性,即檢驗(yàn)解析結(jié)果的溯源性和離散性。
二、規(guī)范試品能夠 用于校正檢驗(yàn)分析儀,以保證該檢驗(yàn)分析儀量程的實(shí)效性,即檢驗(yàn)解析結(jié)果的溯源性和離散性。
三、規(guī)范試品以用于給原材料賦值,以保證該數(shù)值的實(shí)效性,即檢驗(yàn)解析結(jié)果的溯源性和離散性。
四、規(guī)范試品能夠 進(jìn)一步拓展到用其鑒定試驗(yàn)室的技術(shù)性工作能力、考評(píng)解析實(shí)際操作工作人員技術(shù)實(shí)力、開發(fā)設(shè)計(jì)制定新的規(guī)范檢驗(yàn)統(tǒng)計(jì)分析方法等。
氮?dú)馐且环N惰性氣體,在空氣中所占含量較大約為78%。隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展,氮?dú)庠趪?guó)民經(jīng)濟(jì)的各行各業(yè)正日益廣泛地應(yīng)用。氮?dú)庵饕米鞅Wo(hù)氣體、吹掃氣體、載氣、干燥氣體等。
同樣根據(jù)統(tǒng)計(jì)美國(guó)1999年的液氮市場(chǎng)行情為化工22%、食品20%、電子16%、機(jī)械7%、金屬6%、油氣5%、石油4%、運(yùn)輸4%、橡膠3%、實(shí)驗(yàn)室3%、制造2%、其他8%。氮主要用于合成氨,由此制造化肥、肖酸等,氨還是合成纖維(錦綸、腈綸),合成樹脂,合成橡膠等的重要原料。由于高純氮?dú)?/strong>的化學(xué)惰性,常用作保護(hù)氣體。以防止某些物體暴露于空氣時(shí)被氧所氧化,用氮?dú)馓畛浼Z倉(cāng),可使糧食不霉?fàn)€、不發(fā)芽,長(zhǎng)期保存。液氨還可用作深度冷凍劑。
氮?dú)?/strong>的化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,不活潑 只有在高溫高壓或者是放電的情況下才進(jìn)行反應(yīng) 而且0毒無(wú)污染,來(lái)源廣泛,市場(chǎng)價(jià)值便宜,通常都是用于做標(biāo)準(zhǔn)氣體的底氣。下面一起看拿下高純氮?dú)鈽?biāo)準(zhǔn)氣體的選擇技巧。
通常,人們常用百分濃度來(lái)轟示氣體的純度,即所謂用幾個(gè)“9”字的表示法。例如,某種氣體濃度為99.9%,表示含有0.1% 的雜質(zhì)(即雜質(zhì)含量為1000ppm)。按通常的概念,顯然,濃度為99.995%的氣體比99.99%的氣體更純,人們使用起來(lái)似乎能更放心。但是,如果在選擇純度時(shí)限于這種考慮,則不論對(duì)科研或生產(chǎn)都將有不利的影響。如果只作這樣的考慮,顯然忽視了兩個(gè)主要因素,即高純氮?dú)鈽?biāo)準(zhǔn)氣體的價(jià)格和所含雜質(zhì)的危害性?!?
獲得7個(gè)“9”以上的超高純氮?dú)鈽?biāo)準(zhǔn)氣體,現(xiàn)已相當(dāng)困難,除在實(shí)驗(yàn)室中能提供一部分外,在一般工業(yè)生產(chǎn)中難以大量提供。因此,從經(jīng)濟(jì)上來(lái)說(shuō),單純追求“9”字?jǐn)?shù)目的純氣體,除了在科研中還能有條件地接受之外,在一般生產(chǎn)上是根本無(wú)法接受的。
我們應(yīng)該從氣體中所含雜質(zhì)的濃度和該雜質(zhì)對(duì)本工藝的危害性角度出發(fā)來(lái)選擇使用高純氣體。這是因?yàn)槟壳耙箽怏w中的雜質(zhì)總量降到lppm以下雖然是困難的,但對(duì)將單項(xiàng)有害雜質(zhì)降到l×10-9或更低的水平還是可能的。按目前的工藝水平,硅中雜質(zhì)總含量不會(huì)低于10-8(1ppm)的水平,但是,對(duì)其中有危害的電活性雜質(zhì)磷、硼等的單項(xiàng)控制,巳達(dá)1×10-8 ~l×10-10 。(即O.1~O.O1ppb)的水平。