水是重要的清洗劑，有著其它任何清洗劑無法替代的作用和地位。普通的水很容易從自然界中得到，水有很強的溶解力和分散力。但是水的表面張力大，在使用中需要添加表面活性劑，以減小表面張力，增加表面濕潤性。在一般工業(yè)清洗中，酸，堿和水的配合比較常見，有些金屬用水洗要加入防銹劑;在精密和超精密工業(yè)清洗中。氟系清洗劑主要有HCFC(含氫氟氯化碳)、HFC(含氫碳氟化物)、HFE(氫氟醚)、PFC(全氟化碳)等。大部分要求將水制成純凈水。通常以電阻率來衡量水純度。半導(dǎo)體工業(yè)要求在18MΩ/cm以上。而TN型液晶生產(chǎn)10MΩ/cm就可以了，還有一些行業(yè)對細l菌含量要求很嚴(yán)。

使用水基清洗劑的清洗工藝 1、機械攪拌清洗、 2、浸泡清洗、 3、噴淋清洗、 4、超聲波清洗、 5、電解清洗等。用于不同的清洗目的與清洗對象的清洗劑，對于這些要求可以有所側(cè)重或取舍。 堿性水基清洗劑，指PH值大于7的脫脂劑，如裕滿實業(yè)弱堿性水基清洗劑WHC-2 堿性玻璃清洗劑WSG-130 PH值均為9，堿性水基清洗劑WP-751、WHC-5 堿性玻璃清洗劑WSG-100 PH值均為11。按稀釋泡沫量分類1、無泡型2、低泡型3、高泡型

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水是重要的清洗劑，有著其它任何清洗劑無法替代的作用和地位。普通的水很容易從自然界中得到，水有很強的溶解力和分散力。但是水的表面張力大，在使用中需要添加表面活性劑，以減小表面張力，增加表面濕潤性。在一般工業(yè)清洗中，酸，堿和水的配合比較常見，有些金屬用水洗要加入防銹劑；在精密和超精密工業(yè)清洗中。比較理想的是采用真空清洗方式，降低其表面張力，提高清洗能力，最后再使用真空干燥。大部分要求將水制成純凈水。通常以電阻率來衡量水純度。半導(dǎo)體工業(yè)要求在18MΩ/cm以上。而TN型液晶生產(chǎn)10MΩ/cm就可以了。

半水基型清洗劑也叫準(zhǔn)水基型清洗劑，是由高沸點溶劑及活性劑等組成如醇類，有機烴類等。通常含有5%一20%的水分，一般不燒，但加溫清洗時水含量控制不當(dāng)，可能產(chǎn)生燃燒現(xiàn)象。半水基型清洗與溶劑洗有一些不同，它的清洗原理是剝離去除，而不是溶解。印刷鋼網(wǎng)清洗劑實驗室配備了各種清洗設(shè)備和分析器包括：○批次清洗設(shè)備○掃描電子顯微鏡○在線清洗設(shè)備○離子分析儀○超聲波○FTIR光譜分析儀○高倍顯微鏡○濕度箱。為了防止已經(jīng)剝落的油污再附到被清洗物上，清洗液要連續(xù)地循環(huán)，并增加油水分離器。半水洗通常清洗效果很好，但運行成本較高，廢液不能再生回收，重復(fù)使用，含COD（化學(xué)耗氧量）較高，需要進行廢水處理。