公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

光刻是制造半導(dǎo)體器件和集成電路微圖形結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵工藝。其工藝質(zhì)量直接影響著器件成品率、可靠性、器件性能以及使用壽命等參數(shù)指標。光罩是光刻工藝中的一個重要環(huán)節(jié)，光刻版必須非常潔凈，所有硅片上的電路元件都來自版圖。如果光刻版不潔凈，存在污染顆粒，這些顆粒就會被到硅片表面的光刻膠上，造成器件性能的下降。其中石英掩膜版和蘇打掩膜版為高校和科研院所光刻時所常用的光刻掩膜版。

機顯時還要注意以下幾點：①要定期維護顯影機，以保證已曝光的PS版顯影能正常進行。②在顯影之前必須保持各傳動輥清潔，若牽引輥不干凈，顯影時印版易粘上臟點。③如顯影機有涂膠裝置，一定注意膠輥要保持清潔，否則要弄臟印版。④一般情況下，陽圖PS版顯影液(原液)的顯影能力為10m2/L。⑤上保護膠時，一定要均勻施膠，不能太厚，以免干后導(dǎo)致涂層龜裂和掉版。賡旭光電光學(xué)玻璃可用于制造光學(xué)儀器中的濾光片、透鏡、棱鏡、反射鏡及窗口等。

掩膜版是對勻膠鉻版經(jīng)過光繪加工后的產(chǎn)品。勻膠鉻版（光掩膜基版）由玻璃基板、鉻層、氧化鉻層和光刻膠層構(gòu)成的。通過光刻制版工藝，將微米級和納米級的精細圖案刻制于掩膜版基板上從而制作成掩膜版。