在芯片制造領(lǐng)域，光刻機(jī)和蝕刻機(jī)一直是芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵。在業(yè)界有個(gè)形象的比喻，光刻機(jī)是芯片制造的魂，蝕刻機(jī)是芯片制造的魄，如果要想制造的芯片，這兩個(gè)東西都必須。

而在光刻機(jī)方面，與世界的7nm制程都相去甚遠(yuǎn)。不管三星、英特爾還是臺(tái)積電在芯片制程工藝方面如何去競(jìng)爭(zhēng)，但ASML終究是背后霸主，贏家，因?yàn)樗麄冋l(shuí)都離不開(kāi)他的EUV光刻機(jī)。而國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)還在路上，目前我國(guó)已經(jīng)能夠使用365納米波長(zhǎng)的光生產(chǎn)22納米工藝的芯片，這在全世界尚無(wú)先例，它也被稱為世界上首臺(tái)分辨力的紫外超分辨光刻裝備。這也意味著國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)可以使用低成本光源，實(shí)現(xiàn)了更高分辨力的光刻。

“這倆機(jī)器的解釋就是光刻機(jī)把電路圖投影到覆蓋有光刻膠的硅片上面,刻蝕機(jī)再把剛才畫了電路圖的硅片上的多余電路圖腐蝕掉,這樣看起來(lái)似乎沒(méi)什么難的,但是有一個(gè)形象的比喻,每一塊芯片上面的電路結(jié)構(gòu)放大無(wú)數(shù)倍來(lái)看比整個(gè)北京都復(fù)雜,這就是這光刻和蝕刻的難度?！?

光刻機(jī)的工作原理是在硅片上涂上一層均勻的光刻膠，這種膠狀物，只能被光腐蝕，而不能被化學(xué)物質(zhì)腐蝕，然后利用紫外線照在上面，其中還包含了編碼，用光把不需要的地方腐蝕掉，用光刻技術(shù)制作出自己需要的圖形。蝕刻機(jī)被用來(lái)在光刻機(jī)“復(fù)印”到晶圓的電路輪廓上進(jìn)行雕刻，蝕刻出“山地和溝壑”，形成柵極，也就是常說(shuō)的晶體管。便于大家理解，簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，光刻機(jī)是在一塊木頭上作了一幅畫，而蝕刻機(jī)就是根據(jù)光刻機(jī)的畫雕刻出3D的作品。但實(shí)際上過(guò)程并不是我們形容的那么簡(jiǎn)單。目前我國(guó)中微半導(dǎo)體在蝕刻機(jī)方面也是取得了重大成果。

金屬蝕刻就是先在基板上用絲印或網(wǎng)印的方式把基板上需要保護(hù)的部位遮住，然后用化學(xué)或電化學(xué)方式侵蝕掉不需要的部位，后退去保護(hù)膜，得到制品的一種加工方式。

是生產(chǎn)標(biāo)牌、電路板、金屬工藝品、金屬版畫等過(guò)程中的關(guān)鍵步驟。的技術(shù)工業(yè)生產(chǎn)應(yīng)用是在印刷絲路版，因絲路板的絲線細(xì)而密，機(jī)械加工很難完成。不同的金屬材料，性質(zhì)各不相同，蝕刻圖型的精度不同，蝕刻深度不同，所采用的蝕刻方法、工藝以及所用蝕刻液的配方大不一樣，所采用的感光抗蝕材料也各不相同。

蝕刻機(jī)、金屬腐蝕機(jī)主要以單面平板金屬表面蝕刻為主、廣泛用于標(biāo)識(shí)標(biāo)牌行業(yè)，各種金屬表面文字圖案、五金配件單面蝕刻。我們機(jī)械的蝕刻機(jī)可以成套組成流水線，亦可以單機(jī)獨(dú)立完成工序，是標(biāo)牌廠、電鍍廠、銘牌廠等生產(chǎn)高品位標(biāo)牌、獎(jiǎng)牌禮飾品、工業(yè)品電蝕刻及反蝕刻精密加工等必備的現(xiàn)代化設(shè)備?？捎糜跇?biāo)牌廠、電鍍廠、銘牌廠等各種金屬制品表面圖文、幾何形狀尺寸精密加工或鏤空。