公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

光掩膜版行業(yè)的發(fā)展主要受下游平板顯示行業(yè)、觸控行業(yè)、半導(dǎo)體行業(yè)和電路板行業(yè)的發(fā)展影響，與下游終端行業(yè)的主流消費(fèi)電子 （手機(jī)、平板、可穿戴設(shè)備）、筆記本電腦、車載電子、網(wǎng)絡(luò)通信、家用電器、LED 照明、物聯(lián)網(wǎng)、電子等產(chǎn)品的發(fā)展趨勢(shì)密切相關(guān)，預(yù)計(jì)未來(lái)幾年我國(guó)光掩膜版行業(yè)將向大尺寸、精細(xì)化、全產(chǎn)業(yè)鏈方向發(fā)展。下圖是以激光為光源的光刻機(jī)簡(jiǎn)易工作原理圖：在制造芯片時(shí)，首先在晶圓（硅晶片）表面涂光感膠，再用光線透過掩模版（相當(dāng)于芯片電路圖紙的底片）照射硅片表面，被光線照射到的光感膠會(huì)發(fā)生反應(yīng)。

光掩膜除了應(yīng)用于芯片制造外，還廣泛的應(yīng)用與像LCD，PCB等方面。常見的光掩膜的種類有四種，鉻版(chrome)、干版，凸版、液體凸版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。主要分兩個(gè)組成部分，基板和不透光材料。基板通常是高純度，低反射率，低熱膨脹系數(shù)的石英玻璃。鉻版的不透光層是通過濺射的方法鍍?cè)诓Ａ路胶窦s0.1um的鉻層。鉻的硬度比玻璃略小，雖不易受損但有可能被玻璃所傷害。

業(yè)內(nèi)又稱光掩模版、掩膜版，英文名稱 MASK 或 PHOTOMASK），材質(zhì)：石英玻璃、金屬鉻和感光膠，該產(chǎn)品是由石英玻璃作為襯底，在其上面鍍上一層金屬鉻和感光膠，成為一種感光材料，把已設(shè)計(jì)好的電路圖形通過電子激光設(shè)備曝光在感光膠上,被曝光的區(qū)域會(huì)被顯影出來(lái)，在金屬鉻上形成電路圖形，成為類似曝光后的底片的光掩模版，然后應(yīng)用于對(duì)集成電路進(jìn)行投影定位，通過集成電路光刻機(jī)對(duì)所投影的電路進(jìn)行光蝕刻，其生產(chǎn)加工工序?yàn)椋浩毓?，顯影，去感光膠，后應(yīng)用于光蝕刻。透鏡：用透鏡的光學(xué)原理，將掩膜版上的電路圖按比例縮小，再用光源映射的硅片上。

石英巖的原巖可以是：?jiǎn)蔚V物石英砂巖，含泥質(zhì)、鈣質(zhì)石英砂巖，膠體沉積的硅質(zhì)巖（包括陸源碎屑溶解再沉積的硅質(zhì)巖和與火山噴氣有關(guān)的硅質(zhì)巖）和深海蟲硅質(zhì)巖等。不同原巖形成的石英巖，可根據(jù)結(jié)構(gòu)、變晶程度、副產(chǎn)物、巖石共生組合及產(chǎn)狀等加以區(qū)分。