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在考慮到吸附箱規(guī)格尺寸、碳層空氣阻力、過慮風力的狀況下，按照工作經驗立即選中一個薄厚值。之上設計方案根據活性炭的吸附速度為一個穩(wěn)定值或是無窮大到可忽略的狀況下設計方案的。而具體中吸附速度現(xiàn)階段還不可以合理測算出，不一樣的碳、不一樣的過慮風力、不一樣的氣壓這些，都是會危害碳層的速度吸附速度。

具體中危害碳層吸附速度的要素有：吸附質濃度值、氣壓、溫度、活性炭比表面這些，各標準主要參數中間的關聯(lián)能夠表明為下列公式計算：停留的時間明確后，活性炭的薄厚就可以依據設計方案的過慮風速計算得到。一樣的標準下，一般活性炭層的薄厚越厚，其除去也會越高，但具體運用中，為提升 機器設備的合理性，一般 要考慮到碳層薄厚不可以制的加厚型，

因而針對活性炭層薄厚的挑選，必須依據除去規(guī)定和碳自身的吸附速度，開展合理設計方案測算。根據圖1能夠看得出，(1)碳層薄厚挑選小，吸附速度慢，碳層便會非常容易被透過，造成除去減少;(2)碳層薄厚挑選大，吸附速度快，碳層就不易被透過，碳能夠長期應用。

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低溫等離子體溶解污染物是運用這種高能電子器件、氧自由基等活力顆粒和有機廢氣中的污染物功效，使污染物分子結構在非常短的時間內產生溶解，并產生事后的各種各樣反映以做到溶解污染物的目地。DBD等離子體反映區(qū)含有非常高的物質，如高能電子器件、正離子、氧自由基和高自旋分子結構等，有機廢氣中的污染物質可與這種具備較高能量的物質產生反映，使污染物質在非常短的時間內產生溶解，并產生事后的各種各樣反映以做到解讀污染物的目地。

與傳統(tǒng)式的電弧放電局勢造成的低溫等離子體相較為，DBD等離子體技術性充放電量是電弧放電的50倍，充放電相對密度是電弧放電的130倍。因此 ,傳統(tǒng)式低溫等離子體技術性只有用以室內空氣質量臭味整治,與別的低溫等離子體技術性相較為，DBD等離子體技術性是用以現(xiàn)代化加工工藝廢氣處理的技術性。

等離子體除去污染物的基本上全過程

全過程一：高能電子器件的立即負電子

全過程二：O分子或活性氧的空氣氧化

O2 e→2O

全過程三：OH氧自由基的空氣氧化

H2O e→OH H

H2O O→2OH

H O2→OH O

全過程四：分子結構殘片 O2的反映

光催化氧化的特性

光催化氧化可用自然環(huán)境：光催化氧化合適在常溫狀態(tài)將廢氣臭味等有害有危害有味道成分空氣氧化凈化成無毒性沒害味的低分子結構成分，合適解決濃度較高的(可以用預備處理的方法讓濃度值勻稱根據)、供氣量大(機器設備可組合型解決)、分子式可靠性強的有害有危害氣體。

合理凈化完全：根據光催化氧化可立即將空氣中的有機化學廢氣空氣氧化成無毒性沒害的化學物質，沒留一切二次污染，

環(huán)保節(jié)能：光催化氧化運用人力紫外線殺菌燈造成的真空泵波紫外線做為電力能源來活性納米二氧化鈦，推動空氣氧化—氧化反應，并且納米二氧化鈦在反映全過程中并不耗費，運用廢氣臭味表層中的水分和O2做為還原劑，合理地溶解有害有機化學廢氣體變成催化氧化凈化、節(jié)約資源的較大特性。

光催化氧化對從烴到羧基的類型諸多有機化合物都合理，即便對分子有機化合物如苯的同系物、染劑、中氮有機化合物、滅蟲劑也是有非常好的除去實際效果，只需做到一定的反應速度和反映自然環(huán)境配制就可以做到空氣氧化，可以說氫自由基的空氣氧化目標基本上沒有可選擇性，能跟一切目前化學物質反映。