真空鍍鈦是指在真空的環(huán)境下，采用弧光放電，把陰極鈦靶作為蒸發(fā)源，通過(guò)鈦靶與陽(yáng)極機(jī)體之間的弧光放電，使鈦靶材蒸發(fā)并形成離子體，產(chǎn)生的離子體高速向產(chǎn)品上運(yùn)動(dòng)，在產(chǎn)品表面進(jìn)行沉積，形成了鈦膜層。機(jī)械拋光技術(shù)對(duì)拋光工具要求甚高，需具備高質(zhì)量的油石、砂紙和鉆石研磨膏等輔助品。要想鍍出堅(jiān)固的鈦層，首先要有好的設(shè)備。因?yàn)樵阱兡み^(guò)程中，真空系統(tǒng)必需要工作穩(wěn)定，爐體保壓要好，如果在鍍膜過(guò)程中有雜氣摻入，顏色就會(huì)不理想，嚴(yán)重的還會(huì)脫鈦。

蒸發(fā)源接陽(yáng)極，工件接陰極，當(dāng)通以三至五千伏高壓直流電以后，蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生輝光放電。玫瑰金、鈦金、黑鈦、香檳金等顏色，都是通過(guò)電鍍鍍鈦的方式加工而成的。由于真空罩內(nèi)充有惰性氣，在放電電場(chǎng)作用下部分氣被電離，從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區(qū)。帶正電荷的離子受陰極負(fù)高壓的吸引，猛烈地轟擊工件表面，致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出，從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后，接通蒸發(fā)源交流電源，蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，進(jìn)入輝光放電區(qū)并被電離。

此外，多弧鍍涂層顏色較為穩(wěn)定，尤其是在做 TiN 涂層時(shí)，每一批次均容易得到相同穩(wěn)定的金黃色，令磁控濺射法望塵莫及。6、由于不銹鋼表面加工工序的復(fù)雜性，每一張板材的每一道工序是不可能控制到一致的，這就直接影響到終成品的表面色澤，這也是目前該行業(yè)技術(shù)上的一個(gè)瓶頸。多弧鍍的不足之處是，在用傳統(tǒng)的 DC 電源做低溫涂層條件下，當(dāng)涂層厚度達(dá)到0.3μm 時(shí)，沉積率與反射率接近，成膜變得非常困難。而且，薄膜表面開始變朦。多弧鍍另一個(gè)不足之處是，由于金屬是熔后蒸發(fā)，因此沉積顆粒較大，致密度低，耐磨性比磁控濺射法成膜差。

磁控濺射是70年代在陰極濺射的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的一種新型濺射鍍膜法,由于它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的致命弱點(diǎn),因此獲得了迅速的發(fā)展和廣泛的應(yīng)用.

1. 磁控濺射:

離子轟擊靶材將靶面原子擊出的現(xiàn)象稱為濺射.濺射產(chǎn)生的原子沉積在基體(工件)表面即實(shí)現(xiàn)濺射鍍膜.

磁控濺射的基本原理:

磁控濺射是在濺射區(qū)加了與電場(chǎng)方向垂直的磁場(chǎng),處于正交電場(chǎng)區(qū)E和磁場(chǎng)B中的電子的運(yùn)動(dòng)方程,