離子鍍膜設備的操作規(guī)范是怎樣的?

離子鍍膜設備的操作規(guī)范是怎樣的？ 1、設備中的真空管道、靜態(tài)密封零部件（法蘭、密封圈等）的結構形式，應符合GB/T6070的規(guī)定。 2、在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應安裝真空測量規(guī)管，分別測量各部位的真空度。當發(fā)現(xiàn)電場對測量造成干擾時，應在測量口處安裝電場屏蔽裝置。 3、如果設備使用的主泵為擴散泵時，應在泵的進氣口一側裝設有油蒸捕集阱 4、設備的鍍膜室應設有觀察窗，應設有擋板裝置。觀察窗應能觀察到沉積源的工作情況以及其他關鍵部位。 5、離子鍍沉積源的設計應盡可能提高鍍膜過程中的離化率，提高鍍膜材料的利用率，合理匹配沉積源的功率，合理布置沉積源在真空室體的位置。 6、合理布置加熱裝置，一般加熱器結構布局應使被鍍工件溫升均勻一致。 7、工件架應與真空室體絕緣，工件架的設計應使工件膜層均勻。 8、離子鍍膜設備一般應具有工件負偏壓和離子轟擊電源，離子轟擊電源應具有抑制非正常放電裝置，維持工作穩(wěn)定。

真空鍍膜機真空器件的常用檢漏方法

真空鍍膜機真空器件的常用檢漏方法 依據(jù)電真空器材的結構特色及丈量精度要求，常用的有兩種檢漏辦法，即氦罩法和噴吹法（這兩種檢漏辦法具體介紹可見：氦罩法和噴吹法的氦質譜檢漏儀檢漏常見辦法）。檢漏時，先用氦罩法進行總漏率的測定，當總漏率超出答應值后再用噴吹法進行漏孔的認位。 氦罩法是被檢件與檢漏儀銜接抽真空到達檢漏狀況后，用一個充溢氦氣的查驗罩，把被檢件全體或部分的表面面包圍起來，如圖4所示。查驗罩充氦時先將罩內空氣排出再充氦，以確保罩內氦濃度盡可能挨近100百分之，被檢件上任何地方有走漏。 檢漏儀都會有漏率值改變，顯示出漏率值。氦罩時刻也要繼續(xù)3~5倍檢漏儀呼應時刻。ASM192T2氦質譜檢漏儀反應時刻小于0.5s,因而氦罩時刻30s即可。氦罩法可方便地測定被檢件總漏率，不會漏掉任何一處漏點，但不能確認漏孔方位。 噴吹法是將被檢件與儀器的真空體系相連，對被檢件抽真空后用噴槍向漏孔處吹噴氦氣。當有漏孔存在時，氦氣就經過漏孔進入質譜儀被檢測出，噴吹法彌補了氦罩法不能定位的缺點。

真空鍍膜機在鍍鋁膜方面的使用

真空鍍膜機在鍍鋁膜方面的使用 鍍鋁膜是通過真空鍍鋁工藝將高純度的鋁絲在高溫（1100~1200℃）下蒸發(fā)成氣態(tài)，之后塑料薄膜經過真空蒸發(fā)室時，氣態(tài)的鋁分子沉淀到塑料薄膜表面而形成的光亮金屬色彩的薄膜，鍍鋁膜是采用特殊工藝在塑料薄膜表面鍍上一層極薄的金屬鋁而形成的一種復合軟包裝材料，其中的加工方法當數(shù)真空鍍鋁法，就是在高真空狀態(tài)下通過高溫將金屬鋁融化蒸發(fā)，使鋁的蒸汽沉淀堆積到塑料薄膜表面上，從而使塑料薄膜表面具有金屬光澤。由于它既具有塑料薄膜的特性，又具有金屬的特性，是一種廉價美觀、性能優(yōu)良、實用性強的包裝材料。 與傳統(tǒng)鍍鋁工藝相比較，真空鍍鋁膜有優(yōu)點就太多了，如： （1）大大減少了用鋁量，節(jié)省了能源和材料，降低了成本，復合用鋁箔厚度多為7～gpm，而鍍鋁薄膜的鋁層厚度約為0.05n左右，其耗鋁量約為鋁箔的1/140～1/180，且生產速度可高達450m/min。 （2）具有優(yōu)良的耐折性和良好的韌性，很少出現(xiàn)和裂口，無揉曲龜裂現(xiàn)象，因此對氣體、水蒸汽、氣味、光線等的阻隔性提高。 （3）具有的金屬光澤，光反射率可達97%；且可以通過涂料處理形成彩色膜，其裝潢效果是鋁箔所不及的。 （4）可采用屏蔽式進行部分鍍鋁，以獲得任意圖案或透明窗口，能看到內裝物。 （5）鍍鋁層導電性能好，能消除靜電效應；其封口性能好，尤其包裝粉末狀產品時，不會污染封口部分，保證了包裝的密封性能。 （6）對印刷、復合等后加工具有良好的適應性。 由于以上特點，使鍍鋁薄膜成為一種性能優(yōu)良、經濟美觀的新型復合薄膜，在許多方面已取代了鋁箔復合材料。主要用于風味食品、農產品的真空包裝，以及藥品、化妝品、的包裝。另外，鍍鋁薄膜也大量用作印刷中的燙金材料和商標標簽材料等。