佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產(chǎn)廠家，公司秉承“以質(zhì)取勝，求真務(wù)實，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解.

鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對膜層沉積的影響：

真空度：真空度是指處于真空狀態(tài)下氣體的稀薄程度,用壓強(qiáng)表示,壓強(qiáng)越低,其稀薄程度越大,真空度越高。鍍膜過程中,真空度主要通過控制ya氣流量來改變。

ya氣越少，靶材濺射量越少，但真空度越高,氣體分子自由程越大，散射越少，粒子碰撞幾率越小，粒子遷移過程中損失的動量越少，沉積速率越大

金屬過渡層：過渡層能有效的減小膜-基或不同鍍層間因材料熱膨脹系數(shù)等物理性能不同而形成的應(yīng)力，提高結(jié)合力，但是金屬過渡層太厚容易引起基體軟化，結(jié)合力反而會變差。

本底漏率：本底漏率是指真空室在未加入氣體單位之前本身的單位漏率，漏率越大，進(jìn)入爐內(nèi)的雜氣就越多，不管真空度多高，這會嚴(yán)重影響鍍膜過程中爐內(nèi)氣氛的純度和工件表面的潔凈度，會破壞膜層的結(jié)合力和膜層顏色的純度。

靶基距：靶基距是影響成膜速率的重要因素之一，隨著靶基距增加，被濺射材料射向基片時與氣體分子碰撞的次數(shù)增多，同時等離子體密度也減弱，動能減少，沉積速率降低，但膜層外觀較好。靶基距太小，沉積太快，工件溫升大，膜層外觀差

輝光清洗：對工件施加負(fù)偏壓，產(chǎn)生輝光放電，利用ya離子轟擊工件表面，這種輝光放電清洗作用比較柔和，一般采取由弱到強(qiáng)的轟擊清洗順序，是怕工件太臟時一開始就強(qiáng)轟擊，可能產(chǎn)生強(qiáng)烈的打火而損傷工件。