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真空鍍膜加工對于 高度不穩(wěn)定的、對水蒸氣敏感的表面,一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。對經(jīng)過清洗處理的清潔表面,不能在大氣環(huán)境中存放,要用封閉容器或保潔柜貯存,以減小灰塵的沾污。用剛 氧化的鋁容器貯存玻璃襯底,可使碳?xì)浠衔镎魵獾奈綔p至。因為這些容器優(yōu)先吸附碳?xì)浠衔铩?
真空鍍膜加工清除鍍膜室內(nèi)的灰塵,設(shè)置清潔度高的工 作間,保持室內(nèi)高度清潔是鍍膜工藝對環(huán)境的基本要求。空氣濕度大的地區(qū),除鍍前要對基片、真空室內(nèi)各部 件認(rèn)真清洗外,還要進(jìn)行烘烤除氣。要防止油帶入真空室內(nèi),注意油擴散泵返油,對加熱功率高的擴散泵必須 采取擋油措施。
真空鍍膜應(yīng)用,簡單地理解就是在真空環(huán)境下,利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結(jié)的辦法,在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。
相對于傳統(tǒng)鍍膜方式,真空鍍膜應(yīng)用屬于一種鍍膜,它的主要方法包括以下幾種
1、真空蒸鍍:其原理是在真空條件下,用蒸發(fā)器加熱帶蒸發(fā)物質(zhì),使其氣化或升華,蒸發(fā)離子流直接射向基片,并在基片上沉積析出固態(tài)薄膜的技術(shù)。
2、濺射鍍膜:濺射鍍膜是真空條件下,在陰極接上2000V高壓電,激發(fā)輝光放電,帶正電的離子撞擊陰極,使其射出原子,濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。
真空鍍膜技術(shù)是在真空條件下采用物理或化學(xué)方法,使物體表面獲得所需的涂層,目前已被廣泛應(yīng)用于耐酸、耐蝕、耐熱、表面硬化、裝飾、潤滑、光電通訊、電子集成、能源等領(lǐng)域。真空鍍膜技術(shù)也是PVD涂層的常用制備方法,如真空蒸發(fā)、濺射鍍膜和離子鍍等通常稱為物理氣相沉積法(PVD),是基本的涂層制備技術(shù)。它們都要求淀積薄膜的空間要有一定的真空度。