真空鍍膜機(jī)真空器件的常用檢漏方法

真空鍍膜機(jī)真空器件的常用檢漏方法 依據(jù)電真空器材的結(jié)構(gòu)特色及丈量精度要求，常用的有兩種檢漏辦法，即氦罩法和噴吹法（這兩種檢漏辦法具體介紹可見：氦罩法和噴吹法的氦質(zhì)譜檢漏儀檢漏常見辦法）。檢漏時，先用氦罩法進(jìn)行總漏率的測定，當(dāng)總漏率超出答應(yīng)值后再用噴吹法進(jìn)行漏孔的認(rèn)位。 氦罩法是被檢件與檢漏儀銜接抽真空到達(dá)檢漏狀況后，用一個充溢氦氣的查驗罩，把被檢件全體或部分的表面面包圍起來，如圖4所示。查驗罩充氦時先將罩內(nèi)空氣排出再充氦，以確保罩內(nèi)氦濃度盡可能挨近100百分之，被檢件上任何地方有走漏。 檢漏儀都會有漏率值改變，顯示出漏率值。氦罩時刻也要繼續(xù)3~5倍檢漏儀呼應(yīng)時刻。ASM192T2氦質(zhì)譜檢漏儀反應(yīng)時刻小于0.5s,因而氦罩時刻30s即可。氦罩法可方便地測定被檢件總漏率，不會漏掉任何一處漏點，但不能確認(rèn)漏孔方位。 噴吹法是將被檢件與儀器的真空體系相連，對被檢件抽真空后用噴槍向漏孔處吹噴氦氣。當(dāng)有漏孔存在時，氦氣就經(jīng)過漏孔進(jìn)入質(zhì)譜儀被檢測出，噴吹法彌補(bǔ)了氦罩法不能定位的缺點。

真空鍍膜設(shè)備的處理方法

空鍍膜設(shè)備廠家分析真空鍍膜設(shè)備的處理方法 加工真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要?；M(jìn)入鍍膜室前均應(yīng)進(jìn)行認(rèn)真的鍍前清潔處理，達(dá)到工件去油、去污和脫水的目的。 基片表面污染來自零件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物;零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的氣體。真空鍍膜廠家這些污物基本上均可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。 對經(jīng)過清洗處理的清潔表面，不能在大氣環(huán)境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳?xì)浠衔镎魵獾奈綔p至較小。因為這些容器優(yōu)先吸附碳?xì)浠衔?。對于高度不穩(wěn)定的、對水蒸氣敏感的表面，一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。

真空鍍膜機(jī)注意事項及保養(yǎng)

真空鍍膜機(jī)注意事項及保養(yǎng) 真空鍍膜機(jī)的鍍膜原理是在高真空條件下，利用電子束對金屬或非金屬材料加熱到適當(dāng)溫度，熱蒸發(fā)成蒸氣分子材料，蒸發(fā)出來的分子到處迸射，碰到待鍍物體，隨之沉積在基材表面形成膜層。真空鍍膜機(jī)廣泛應(yīng)用于微電子，光學(xué)成膜，裝飾，表面工程等領(lǐng)域。它在防止油污和工作效率上具有非常好的性能。而想要真空鍍膜設(shè)備長期穩(wěn)定的運行，正確的使用及保養(yǎng)方法是必不可少的。 開機(jī)前要檢查水電氣是否正常，開機(jī)后，光控系統(tǒng)等于要先穩(wěn)定1小時再使用，鍍膜前要檢查光控片、晶控片壽命，加料、清潔之類的需要蓋上離子源的防護(hù)板，防止離子源柵網(wǎng)損壞。為了使光學(xué)鍍膜機(jī)能正常工作，平時需要對機(jī)器進(jìn)行保養(yǎng)，定期更換泵油，2個月左右為宜，真空泵也2個月一換，新的真空泵需要在使用半個月就立即更換，定期清潔設(shè)備及周邊環(huán)境，保持設(shè)備及環(huán)境的干凈。