真空鍍膜機(jī)

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。如果氣體中含有蒸氣、顆粒、及腐蝕性氣體，應(yīng)該考慮在泵的進(jìn)氣口管路上安裝輔助設(shè)備，如冷凝器、除塵器等。并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。 對(duì)于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。

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真空抽不上去的原因

1、漏率偏高就是我們通常所說的漏氣;.

2、真空機(jī)組的抽氣能力不夠了，油被污染或氧化了:

3、真空室內(nèi)太臟放氣;

4、真空室內(nèi)有漏水;

5、真空管道有漏氣;.

6、或者是以上幾種可能都有。

出現(xiàn)問題首先是要判斷，是不是拆卸過東西，是不是漏水?閥門打開了嗎?根據(jù)現(xiàn)象判斷原因，然后再去根據(jù)判斷找問題，可能會(huì)收到事半功倍的效果。

養(yǎng)成良好的衛(wèi)生習(xí)慣

相比以前我們廠的設(shè)備是灰塵滿面、油漬不堪。也許很多人都認(rèn)為，設(shè)備只要正常運(yùn)轉(zhuǎn)就可以了，搞得再干凈也是做表面工作。我可是這樣認(rèn)為的，一個(gè)人連表面工作都作不來，那真的還有內(nèi)在、實(shí)在的工作嗎?當(dāng)然設(shè)備和設(shè)備周圍的灰塵、油污對(duì)設(shè)備的本身的影響也是相當(dāng)之大的。排氣系統(tǒng)為鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)的重要部分，主要有由機(jī)械泵、增壓泵（主要介紹羅茨泵）、油擴(kuò)散泵三大部分組成。灰塵能產(chǎn)生靜電，損壞電子元件;油污能使電線、水管硬化開裂，造成一些意想不到的問題出現(xiàn)。特別我們使

用的真空設(shè)備，還有它本身的特殊性。真空設(shè)備講究的是-一個(gè)真空清潔度，真空清潔度越差，放氣性就越大。這樣使設(shè)備抽到較高的真空度所需的時(shí)間就越長。

或者根本就無法抽到。這樣一來就減少我們的產(chǎn)量，二來影響到了我們的產(chǎn)品的質(zhì)量。

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真空鍍膜機(jī)的真空室設(shè)計(jì)方法

真空鍍膜技術(shù)是在真空條件下采用物理或者化學(xué)方法，使物體表面獲取所需膜體，真空鍍膜技術(shù)根據(jù)其采用方法的不同科分成蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積以及分子束外延等，這次分析的鍍膜設(shè)備采用的是磁控濺射鍍膜。

真空室是真空設(shè)備的一個(gè)主要組成部位，真空鍍膜設(shè)備真空室設(shè)計(jì)主要考慮的就是密封性和可靠性，結(jié)構(gòu)必須要合理，真空設(shè)備的材料生產(chǎn)都是在真空室內(nèi)進(jìn)行的，材料對(duì)真空度的影響要小，設(shè)計(jì)不能馬虎，要注意一些問題。

使用磁控濺射的真空鍍膜機(jī)一般采用的是圓筒主體結(jié)構(gòu)，結(jié)構(gòu)上要保證快速抽空，因氣袋會(huì)緩慢的放氣，因此要避免出現(xiàn)隔離孔穴，真空系統(tǒng)上端會(huì)加裝磁控濺射槍，為了使真空室和元件有足夠的強(qiáng)度，保證在外部和內(nèi)部的作用力下不產(chǎn)生形狀的變化，厚度需要足夠。

焊接是真空室制造中的一道關(guān)鍵工序，保證焊接之后的真空室不會(huì)產(chǎn)生漏氣現(xiàn)象，須合理設(shè)計(jì)焊接結(jié)構(gòu)，提高焊接質(zhì)量，處在超高真空的內(nèi)壁粗糙度要拋光使室外室內(nèi)表面很光潔，須特別注意的是需做好防止生銹的措施。

真空鍍膜機(jī)部件分析

真空主體——真空腔根據(jù)加工產(chǎn)品要求的各異，真空腔的大小也不一樣，目前應(yīng)用1多的有直徑1、3M、0、9M、1、5M、1、8M等，腔體由不銹鋼' target=_blank>不銹鋼材料制作，要求不生銹、堅(jiān)實(shí)等，真空腔各部分有連接閥，用來連接各抽氣泵浦。以上內(nèi)容由艾明坷為您提供，今天我們來分享的是薄膜均勻性概念的相關(guān)內(nèi)容，希望對(duì)您有所幫助。

輔助抽氣系統(tǒng)：排氣系統(tǒng)為鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)的重要部分，主要有由機(jī)械泵、增壓泵(主要介紹羅茨泵)、油擴(kuò)散泵三大部分組成。此排氣系統(tǒng)采用“擴(kuò)散泵 機(jī)械泵 羅茨泵 低溫冷阱 polycold”組成。了解被抽氣體成分，氣體中含不含可凝蒸氣，有無顆?；覊m，有無腐蝕性等。排氣流程為：機(jī)械泵先將真空腔抽至小于2、0*10-2PA左右的低真空狀態(tài)，為擴(kuò)散泵后繼抽真空提供前提，之后當(dāng)擴(kuò)散泵抽真空腔的時(shí)候，機(jī)械泵又配合油擴(kuò)散泵組成串聯(lián)，以這樣的方式完成抽氣動(dòng)作。