在光學(xué)鍍膜材料的應(yīng)用上，鍍膜靶材是核心技術(shù)，通過不同靶材中含有的稀有金屬不同而形成不同的光學(xué)鍍膜材料，普遍應(yīng)用的稀有金屬有氟化釔、氟化鐠、鍺、硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯、鈷、、硒等金屬。在反射鏡的光學(xué)材料中普遍用到銅、鉬、硅、鍺等金屬，在輸出端和透射光學(xué)原件中鍺、、硒化鋅等應(yīng)用廣泛。由于鍍膜層極薄有孔隙，要求底涂層和面涂層的溶劑和稀釋劑有良好的相溶性。

隨著鍍膜技術(shù)的不斷推廣，光學(xué)鍍膜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域也在不斷拓寬，這些具有優(yōu)異物理特性的金屬將隨著我們生活水平的提高為我們的生活帶來更多的精彩。

塑料中含有水分、殘留溶劑、單體、低聚合物、增塑劑等，揮發(fā)性小分子會在真空或升溫環(huán)境下逸出表面，嚴(yán)重影響真空鍍層對基材的附著力，而采用底涂技術(shù)就可阻礙這些小分子的逸出，提高真空鍍層對基材的附著力。

塑料基材與真空鍍層通常為金屬)兩者熱膨脹系數(shù)相差很大，在真空鍍膜升溫、降溫過程中膜層容易，膜層越厚，的可能性越大，因此選用合適的涂層作為過渡層，可以減少內(nèi)應(yīng)力的積累和的發(fā)生

物理氣相沉積技術(shù)具有膜/基結(jié)合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應(yīng)用的靶材廣泛、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復(fù)性好等優(yōu)點。同時，物理氣相沉積技術(shù)由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下，因此可作為終的處理工藝用于高速鋼和硬質(zhì)合金類的薄膜刀具上。由于采用物理氣相沉積工藝可大幅度提高刀具的切削性能，人們在競相開發(fā)、高可靠性設(shè)備的同時，也對其應(yīng)用領(lǐng)域的擴(kuò)展，尤其是在高速鋼、硬質(zhì)合金和陶瓷類刀具中的應(yīng)用進(jìn)行了更加深入的研究。真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要，直接影響到電鍍的產(chǎn)品品質(zhì)。

化學(xué)氣相沉積技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng)，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學(xué)氣相沉積、低壓化學(xué)氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學(xué)氣相沉積等。

真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較，具有下列優(yōu)點：(1)薄膜和基體選材廣泛，薄膜厚度可進(jìn)行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結(jié)合強(qiáng)度好，薄膜牢固。(4)干式鍍膜既不產(chǎn)生廢液，也無環(huán)境污染。粉沫熱噴涂：其工藝是在浮法玻璃生產(chǎn)線孤玻璃退水室中，將金屬化學(xué)粉沫試劑均勻的直接噴在熱玻璃上，試劑過熱分解后，在玻璃表面形成一層金屬氧化物膜，此膜由于金屬物的不同而呈現(xiàn)不同的透射色和反射色。