高真空離子鍍適用范圍比較廣，如ABS料、ABS PC料、PC料的商品。傳統(tǒng)水電鍍技術(shù)流程雜亂、環(huán)境污染大、設(shè)備成本高、對作業(yè)人員身體傷害大，電鍍出來產(chǎn)品外觀損壞大，產(chǎn)品穩(wěn)定性差。

 為什么要在真空鍍膜工藝之前在基材表面先噴一層底漆呢？制備硬質(zhì)反應(yīng)膜大多以物理氣相沉積方法制得，它利用某種物理過程，如物質(zhì)的熱蒸發(fā)，或受到離子轟擊時(shí)物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象，實(shí)現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到薄膜的可控轉(zhuǎn)移過程。因?yàn)樗芰匣耐獗砜赡懿黄交绻麤]有先噴底漆直接使用高真空鍍膜的話，如果客人要求很高，產(chǎn)品可能會(huì)因?yàn)楣ぜ獗聿还饣?，而使加工出來的產(chǎn)品光澤度相對會(huì)低一點(diǎn)，金屬質(zhì)感相對也會(huì)有所下降，如果基料有氣泡，水泡這狀況更高明顯，就無法滿足客人需求。

真空鍍膜的方法很多，計(jì)有：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達(dá)到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對面，把惰性氣體(如)通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強(qiáng)約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學(xué)氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物，獲得沉積薄膜的過程。由于鍍膜層極薄有孔隙，要求底涂層和面涂層的溶劑和稀釋劑有良好的相溶性。(4)離子鍍：實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合，兼有兩者的工藝特點(diǎn)。表6-9列出了各種鍍膜方法的優(yōu)缺點(diǎn)。

Parylene涂層不僅有優(yōu)異的介電性能、低的介質(zhì)損耗和高的介電強(qiáng)度，同時(shí)具有優(yōu)良的機(jī)械性能和耐輻射性能。Parylene如此高的介電強(qiáng)度主要?dú)w功于Parylene能形成連續(xù)無缺陷和無其它填充物的薄膜。Parylene具有優(yōu)異的尺寸穩(wěn)定性和低溫性能，在幾乎不改變器件尺寸的情況下提供1.5KV,2.0KV 甚至更高的耐電壓擊穿性能。這些透明的聚合物實(shí)際上是高結(jié)晶和線性的，具有優(yōu)異的介電和屏蔽性能，以及化學(xué)惰性，而且致密無。因此，Parylene可用作微機(jī)電，微馬達(dá)的表面處理和絕緣體。使用高純度的Parylene作鈍化層和介質(zhì)層，能提供安全、穩(wěn)定的防護(hù)。

1. 房間隔缺損封堵器：派瑞林作為涂層置于傳統(tǒng)的鎳鈦合金封堵器表面，這種涂層超薄同形性好、耐腐蝕、與人體組織及血液良好相容，它不僅提供了惰性、生物相容的隔離層，還可有效的防止外界的化學(xué)品、水分和體液的侵蝕，同時(shí)增加了封堵器表面的干潤性和絕緣性能，并可防止鎳離子析出對細(xì)胞組織的損害。像風(fēng)嘴、風(fēng)嘴環(huán)運(yùn)用PC料，這些部件均要求耐130℃的高溫，通常要求耐高溫的部件，做真空電鍍都要在畢竟噴一層UV油，這么使得商品外表既有光澤、有能耐高溫、同時(shí)又加強(qiáng)其附著力。

2. 壓力傳感器——敏感的電子器件如血壓傳感器，只需沉積少量Parylene就能充分絕緣，而且少量保護(hù)涂層不會(huì)明顯改變這些器件的操作。