在光學(xué)鍍膜材料的應(yīng)用上，鍍膜靶材是核心技術(shù)，通過不同靶材中含有的稀有金屬不同而形成不同的光學(xué)鍍膜材料，普遍應(yīng)用的稀有金屬有氟化釔、氟化鐠、鍺、硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯、鈷、、硒等金屬。隨著鍍膜技術(shù)的不斷推廣，光學(xué)鍍膜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域也在不斷拓寬，這些具有優(yōu)異物理特性的金屬將隨著我們生活水平的提高為我們的生活帶來更多的精彩。在反射鏡的光學(xué)材料中普遍用到銅、鉬、硅、鍺等金屬，在輸出端和透射光學(xué)原件中鍺、、硒化鋅等應(yīng)用廣泛。

隨著鍍膜技術(shù)的不斷推廣，光學(xué)鍍膜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域也在不斷拓寬，這些具有優(yōu)異物理特性的金屬將隨著我們生活水平的提高為我們的生活帶來更多的精彩。

納米鍍膜

直接蒸鍍法。是被鎮(zhèn)基材直接通過真空鍍膜機，將金屬鋁蒸鍍在基材表面而形成鍍鋁薄膜。直接蒸鍍法對基材的要求較高，尤其是要形成表面光亮的金屬膜，要求基材具有較好的表面平滑度。電路板鍍膜加工工藝生產(chǎn)管理人員對操作工指導(dǎo)和監(jiān)督不力，這些在PVD鍍膜企業(yè)較普遍存在的狀況,電路板鍍膜加工工藝使得故障在所難免。如果紙張的表面較粗糙，要采用直接蒸鍍法，在鍍鋁前需先進行表面涂布。另外，在蒸鍍過程中基材的揮發(fā)物要少。因此直接蒸鍍法對基材有較大的局限性，它主要適合于蒸鍍塑料薄膜，也可用于紙張的蒸鍍，但紙張的質(zhì)量要求高，并對紙的定量有限度。

電路板鍍膜加工工藝加工生產(chǎn)故障是每個電路板鍍膜加工工藝企業(yè)都會遇到的問題，排除故障是電路板鍍膜加工工藝技術(shù)人員的重要職責(zé)。電路板鍍膜加工工藝實踐出真知，PVD鍍膜生產(chǎn)的實踐性很強。真空鍍膜加工對于高度不穩(wěn)定的、對水蒸氣敏感的表面，一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。要在調(diào)控PVD鍍膜生產(chǎn)的全過程中做到遇障不驚，PVD鍍膜的途徑就是在生產(chǎn)實踐中摸爬滾打、堅韌實干善于思考，不斷探索和積累等。

真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要，直接影響到電鍍的產(chǎn)品品質(zhì)。物理氣相沉積技術(shù)具有膜/基結(jié)合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應(yīng)用的靶材廣泛、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復(fù)性好等優(yōu)點。加工件進入鍍膜室前一定要做到認真的鍍前清潔處理，表面污染來自工件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、 機油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物，為了避免加工過程中造成的不良，真空鍍加工廠家基本上可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。

對經(jīng)過清洗處理的清潔表面，不能在大氣環(huán)境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛 氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳氫化合物蒸氣的吸附減至小。因此，Parylene可用作微機電，微馬達的表面處理和絕緣體。因為這些容器優(yōu)先吸附碳氫化合物。真空鍍膜加工對于 高度不穩(wěn)定的、對水蒸氣敏感的表面，一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。

Parylene涂層，其性能可以滿足電路組件的涂層需要。這些透明的聚合物實際上是高結(jié)晶和線性的，具有優(yōu)異的介電和屏蔽性能，以及化學(xué)惰性，而且致密無。

用Parylene涂敷的集成電路硅片細引線可加固5-10倍，Parylene還能滲透到硅片下面，提高硅片的結(jié)合強度，提高集成電路的可靠性。

Parylene在電子產(chǎn)品領(lǐng)域的優(yōu)點:

防鹽霧，防氧化，防潮濕三防性能優(yōu)異同時在酷熱及低溫-270攝氏度條件下均保持良好的防護特性；

極低的介電常數(shù)和超薄的厚度，高頻損耗??；