鍍膜技術在信息存儲領域中的應用 薄膜材料作為信息記錄于存儲介質，有其得天獨厚的優(yōu)勢：由于薄膜很薄可以忽略渦流損耗；磁化反轉極為迅速；與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀態(tài)容易保持等。車燈鍍膜機 為了更精密地記錄與存儲信息，必然要采用鍍膜技術。

鍍膜技術在傳感器方面的應用 在傳感器中，多采用那些電氣性質相對于物理量、化學量及其變化來說，極為敏感的半導體材料。

真空電鍍設備膜厚的不均勻問題

無論監(jiān)控儀精度怎樣，它也只能控制真空室里單點位置的膜厚，一般來講是工件架的中間位置。而低輻射膜則能滿足高緯度地區(qū)充分接受太陽輻射能量和阻止室內熱量外流的要求。如果真空電鍍設備此位置的膜厚不是均勻的，那么遠離中心位置的基片就無法得到均勻的厚度。雖然屏蔽罩能消除表現(xiàn)為長期的不均勻性，但有些膜厚度的變化是由蒸發(fā)源的不穩(wěn)定或膜材的不同表現(xiàn)而引起的，所以幾乎是不可能消除的，但對真空室的結構和蒸發(fā)源的恰當選擇可以使這些影響化。

在過去幾年中，越來越多的用戶要求鍍膜系統(tǒng)制造廠家提供的小規(guī)格、簡便型光學鍍膜系統(tǒng)，同時，用戶對性能的要求不僅沒有降低，反而有所提高，特別是在薄膜密度和保證吸水后光譜變化小化等方面。

現(xiàn)在，系統(tǒng)的平均尺寸規(guī)格已經在降低，而應用小規(guī)格設備進行光學鍍膜的生產也已經轉變成為純技術問題。因此，選用現(xiàn)代化光學鍍膜系統(tǒng)的關鍵取決于對以下因素的認真考慮：對鍍膜產品的預期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術因素。因此，選用現(xiàn)代化光學鍍膜系統(tǒng)的關鍵取決于對以下因素的認真考慮：對鍍膜產品的預期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術因素。

真空鍍膜已被廣泛運用于各種各樣塑膠、瓷器、夾層玻璃、蠟、木料等產品的表層金屬化上。

1、改進美觀大方，表層光潔，金屬質感五顏六色化，裝飾藝術進一步提高；

2、改進表層強度，原塑料表層比金屬材料軟而易受損，根據真空鍍膜，強度及耐磨性能大大增加；

3、提升耐老化，一般塑膠在戶外脆化迅速，關鍵緣故是紫外線照射引發(fā)，而鍍鋁膜后，鋁對紫外光反射面強，因而，耐老化進一步提高；

4、降低吸水性，表層的鍍膜頻次愈多，愈少，吸水性減少，產品不容易形變，提升耐溫性；

5、使塑膠表層有導電率；

6、非常容易清理，不吸塵。

環(huán)保真空鍍膜設備

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

在真空鍍膜機運轉正常情況下，開動真空鍍膜機時，須先開水管，工作中應隨時注意水壓。

在離子轟擊和蒸發(fā)時，應特別注意高壓電線接頭，不得觸動，以防觸電。

鍍制多層介質膜的鍍膜間，應安裝通風吸塵裝置，及時排除有害粉塵。

酸洗夾具應在通風裝置內進行，并要戴橡皮手套。