右側(cè)部分為氣路原理

用戶可以明確地知道氣路原理與氣路基本構(gòu)成，并可通過手動方式，控制內(nèi)部截止閥（V1-V6的開關(guān)）

INLET1 - 設(shè)備所用背景氣，一般為空氣或氮氣。

INLET2 – 原料氣，用戶可通過列表選擇多種氣體種類。

初級儲氣罐 - 用于二次配氣時儲存初級配比出的一定濃度氣體，系統(tǒng)自動維持壓力在0.5MPa以下，在使用二級配氣條件下，初級儲氣罐自動維持壓力在0.45-0.5MPa上下，用以滿足二級配氣下MFC4的正常工作使用壓差。

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靜態(tài)分配方法的特點

1、除了高壓缸分布方法,靜態(tài)分配方法有一些優(yōu)點,如設(shè)備簡單、操作方便、標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)和稀釋氣體的劑量小等優(yōu)點。

2、而是因為一些氣體化學(xué)性質(zhì)活潑,長期接觸容器或可能發(fā)生吸附反應(yīng),導(dǎo)致氣體濃度不準(zhǔn)確或改變隨著時間的推移,特別是對于低濃度的氣體,誤差較大。

因此,靜態(tài)分布規(guī)律一般只適用于使少量的化學(xué)活潑性標(biāo)準(zhǔn)氣體,使大量的標(biāo)準(zhǔn)氣體,特別是制定標(biāo)準(zhǔn)氣體的化學(xué)活性物質(zhì),必須選擇動態(tài)分配方法。

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標(biāo)準(zhǔn)氣配氣儀

使用靜態(tài)分配方法的優(yōu)點是設(shè)備簡單,操作方便,但由于一些氣體化學(xué)性質(zhì)活潑,與血管壁接觸了很長一段時間會產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng),與此同時,容器壁也有吸附,因此,可能會導(dǎo)致不準(zhǔn)確的混合氣體濃度或其濃度隨著時間的推移,變化,特別是低濃度的標(biāo)準(zhǔn)氣體的制備,往往造成更大的錯誤。用于煤礦礦井測試儀、和氧等測試儀的檢定及性能評價而配制標(biāo)準(zhǔn)氣體，對其進(jìn)行校準(zhǔn)檢定?；瘜W(xué)惰性和劑量不大標(biāo)準(zhǔn)氣體,用這種方法相對比較簡單。

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