離子束刻蝕機(jī)的原理

創(chuàng)世威納——專業(yè)離子束刻蝕機(jī)供應(yīng)商，我們?yōu)槟鷰?lái)以下信息。

利用輝光放電原理將ya氣分解為ya離子，ya離子經(jīng)過(guò)陽(yáng)極電場(chǎng)的加速對(duì)樣品表面進(jìn)行物理轟擊，以達(dá)到刻蝕的作用。把Ar氣充入離子源放電室并使其電離形成等離子體，然后由柵極將離子呈束狀引出并加速，具有一定能量的離子束進(jìn)入工作室，射向固體表面轟擊固體表面原子，使材料原子發(fā)生濺射，達(dá)到刻蝕目的，屬純物理刻蝕。

離子束刻蝕機(jī)的應(yīng)用

創(chuàng)世威納——專業(yè)離子束刻蝕機(jī)產(chǎn)品供應(yīng)商，我們?yōu)槟鷰?lái)以下信息。

應(yīng)用先進(jìn)的離子束濺射和離子束刻蝕工藝,將應(yīng)變電橋直接制作在金屬測(cè)壓膜片上。由于不用傳統(tǒng)的膠粘工藝，顯著改善了應(yīng)變式傳感器的長(zhǎng)期穩(wěn)定性及抗蠕變特性,使產(chǎn)品使用的溫度范圍大為擴(kuò)展。由于沒(méi)有活動(dòng)部件，抗振動(dòng)和抗沖的能力很強(qiáng)，可用于惡劣的環(huán)境。

離子束刻蝕

離子束刻蝕技術(shù)是近年來(lái)發(fā)展起來(lái)的一種微細(xì)加工技術(shù)，它利用反應(yīng)離子束轟擊團(tuán)體表面時(shí)發(fā)生的濺射效應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)剝離加工工作上的幾何圖形。具有極高的分辨率，能夠控制槽深和槽壁角度，表面應(yīng)力小。反應(yīng)離子束刻蝕技術(shù)已有效地用于研究和制造大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路，聲表面波器件，磁泡存儲(chǔ)器，微波器件，集成光路，超導(dǎo)器件，閃爍光柵等。