真空離子鍍膜機(jī)的自動化發(fā)展

真空離子鍍膜機(jī)是太陽能真空管生產(chǎn)的關(guān)鍵設(shè)備，隨著自動化技術(shù)的發(fā)展，其工藝要求及自動化程度也越來越高。

開始的真空離子鍍膜機(jī)控制系統(tǒng)采用繼電器控制，由模擬線路板及單片機(jī)等電路組成實(shí)現(xiàn)控制功能，因線路繁雜以及電子元器件的不穩(wěn)定造成設(shè)備性能的不穩(wěn)定，并且給維修工作帶來很大困難，另外操作界面不直觀，誤操作現(xiàn)象時有發(fā)生。

目前，真空離子鍍膜機(jī)已廣泛采用PLC可編程器設(shè)計控制系統(tǒng)，該技術(shù)已相當(dāng)成熟，基本取代了單片機(jī)，并采用先進(jìn)的人機(jī)界面觸摸屏進(jìn)行更加直觀的人機(jī)對話，可方便地設(shè)定參數(shù)，由控制系統(tǒng)按工藝流程分步或自動運(yùn)行，具有各種系統(tǒng)保護(hù)以及故障提示、報警信息等功能，并且通過利用PLC通訊功能，與上位機(jī)通訊，實(shí)現(xiàn)對真空離子鍍膜機(jī)工藝流程的全程監(jiān)控，以便工程師及時發(fā)現(xiàn)并處理故障信息以及遠(yuǎn)程修改工藝參數(shù)等，較大地方便了生產(chǎn)過程質(zhì)量控制和管理。

真空電鍍機(jī)的操作規(guī)范

1.正常工作的真空電鍍機(jī)在開動時，需要先將水管打開，在真空電鍍機(jī)運(yùn)行之中要時刻注意水壓的狀態(tài)；

2.在離子轟擊和蒸發(fā)時，要特別注意線路方面的情況，不得觸動高壓線頭，以防觸電；

3.在用真空電鍍機(jī)的電子槍的時候，要在鐘罩的外面圍上一定的防護(hù)措施，在觀察真空電鍍機(jī)內(nèi)部工作狀態(tài)的時候，需要隔著一定的防護(hù)玻璃，觀察者建議戴上鉛玻璃的研究，以防X射線對人體造成危害；

真空電鍍機(jī)維修注意事項(xiàng)

4.在對多層介質(zhì)膜進(jìn)行鍍膜時，要記得安裝好通風(fēng)吸塵裝置，及時對有害粉塵進(jìn)行清除；

5.真空電鍍機(jī)的酸洗裝置需在通風(fēng)裝置內(nèi)進(jìn)行操作，且操作時工作人員應(yīng)戴好橡膠手套；

6.真空電鍍工作完畢之后，應(yīng)進(jìn)行斷水和斷電的操作，防止出現(xiàn)資源浪費(fèi)和設(shè)備意外。

主要的鍍膜濺射方式有哪些？

磁控濺射鍍膜設(shè)備在目前鍍膜行業(yè)中是一種不可缺少的鍍膜器材，目前大部分鍍膜企業(yè)都會有使用到。我們平日生產(chǎn)的時候都是由機(jī)器生產(chǎn)，那么大家知道目前的磁控鍍膜設(shè)備主要的濺射方式有哪幾種么？下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設(shè)備的濺射方式。

磁控濺射鍍膜設(shè)備原理解析

主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備可以根據(jù)其特征分為以下四種：（1）直流濺射；（2）射頻濺射；（3）磁控濺射；（4）反應(yīng)濺射.另外,利用各種離子束源也可以實(shí)現(xiàn)薄膜的濺射沉積.

現(xiàn)在的直流濺射（也叫二級濺射）較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩(wěn)定等缺點(diǎn).

直流濺射發(fā)展后期,人們在其表面加上一定磁場,磁場束縛住自由電子后,以上缺點(diǎn)均有所改善,也是現(xiàn)階段廣泛應(yīng)用的一種濺射方法.

CCZK-SF磁控濺射鍍膜設(shè)備

而后又有中頻濺射,提高了陰極發(fā)電速率,不易造成放電、靶材等現(xiàn)象.

而射頻濺射是很高頻率下對靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.

如果尋找本質(zhì)區(qū)別是：直流濺射是氣體放電的前期,而射頻是后期,我們常見的射頻是電焊機(jī).濺射過程所用設(shè)備的區(qū)別就是電源的區(qū)別.

以上就是主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備的濺射方式，希望本文能夠讓用戶對設(shè)備更加了解。