使用氣浮鉆石刀具研磨機(jī)的時(shí)候要注意哪些問(wèn)題？

氣浮鉆石刀具研磨機(jī)主要是用來(lái)打磨車刀，鉆頭，銑刀，雕琢刀等很多刀具，是經(jīng)過(guò)電腦程序設(shè)計(jì)雕琢，磨具銑床，加工中心，是電腦雕琢機(jī)，刻模銑床，加工中間，等工業(yè)必需有配套設(shè)備。

氣浮鉆石刀具研磨機(jī)的使用注意事項(xiàng)：

1、氣浮鉆石刀具研磨機(jī)氣壓應(yīng)控制在2千克每立方厘米以上；

2、使用它加工的時(shí)候，不能一次放太多，要不然砂輪會(huì)磨損過(guò)快，還會(huì)使加工出來(lái)的道具不鋒利；

3、加工的時(shí)候一定要知道刀片的齒數(shù)，所輸入的齒數(shù)一定要與刀片的齒數(shù)相吻合。　　

4、使用過(guò)程中不要把拖板的運(yùn)轉(zhuǎn)速度調(diào)的過(guò)快，太快容易是加工的道具不鋒利。

全能氣浮鉆石刀具研磨機(jī)具有磨削精度高、裝置便利、外型漂亮、布局新穎,各轉(zhuǎn)變部位靈敏，噪音低、振蕩小，刀架部分帶軸承，經(jīng)用、耐磨、操作便利等特色，專門描繪用于刃磨刻模銑床、刻字機(jī)、刻線機(jī)、電腦雕琢機(jī).打標(biāo)機(jī)等各種直徑、形狀、視點(diǎn)的雕琢尖刀、端銑刀、刻刀和按刻模份額相應(yīng)的磨削。因而它是機(jī)械加工及雕琢職業(yè)刀具刃磨的必備的配套設(shè)備。

鉆石首飾研磨機(jī)廠家告訴你珠寶是如何拋光的呢？

1.手拋：用600#---1200#拋光砂紙， 先用電動(dòng)工具安上金剛石鉆頭修飾玉件，再用金剛石什錦銼細(xì)致修好。

用圓砂紙（由粗砂細(xì)砂）進(jìn)行大面積修磨。*用圓布輪抹上拋光膏進(jìn)行大面積拋光。*用氈磨頭抹上拋光膏進(jìn)行細(xì)部拋光。也可以用橡膠磨頭直接拋光。zui后可用1200號(hào)砂紙進(jìn)行手工，再用鉆石粉細(xì)拋。

2.機(jī)拋：買一個(gè)拋光機(jī)（300元至500元）或者鉆石首飾研磨機(jī)，一種小型首飾玉器滾桶拋光機(jī)。買一些我們飛展磨料磨具的金剛砂320#-8000#，有粗拋到精拋。再買三角珠拋光粒，冷光粉，鉆石首飾研磨機(jī)研磨拋光粉在拋光機(jī)里 拋一段時(shí)間就達(dá)到鏡面效果了。

3. 翡翠拋光：表面涂上一層膏狀拋光粉，綠色為氧化鉻橙紅色為氧化shi． 用二千目砂輪磨表面推磨，重復(fù)前兩步，一般要重復(fù)二次后上毛刷，將鉆石粉涂翡翠表面然后用硬毛刷來(lái)拋、細(xì)工，開始對(duì)大工具拋不到小地方來(lái)拋磨，用竹子，沾鉆石粉。

大一點(diǎn)用竹筷子，小地方就要用到竹牙簽了，將翡翠涂上鉆石粉后用硬皮來(lái)精拋，再用超聲波機(jī)來(lái)清洗，清洗不到地方再用酒精來(lái)擦。

然后上臘，對(duì)翡翠成品表面一種保護(hù)，可用開水洗掉 接下來(lái)就吹干，一件精美翡翠做成了。

4.翡翠雕刻拋光工藝———翡翠硬度高，但只要有金剛石或人造金剛石工具加上速度就可以進(jìn)行隨心所欲雕刻。

拋光打磨到光彩照人有三道工序：

a.粗磨——用（1000—2000目）金剛砂制作成各種形狀工具認(rèn)真細(xì)致打磨光滑。

b.細(xì)磨——用（1600—1800目）金剛砂同上法進(jìn)行打磨致光滑有光澤。

c.上亮——用半生牛皮制作工具蘸拋光粉（3.5微米金剛石粉）反復(fù)摩擦，使翡翠制品里里外外光澤鮮亮。d.過(guò)蠟——過(guò)蠟為了防水，防臟物污染。

高速旋轉(zhuǎn)氣浮鉆石研磨機(jī)轉(zhuǎn)速對(duì)材料去除率和表面粗糙度的影響

通常，提高高速旋轉(zhuǎn)氣浮鉆石研磨機(jī)的轉(zhuǎn)速可以提高磨削液產(chǎn)品的磨削效率，但是當(dāng)轉(zhuǎn)速過(guò)高時(shí)，會(huì)出現(xiàn)一些具體問(wèn)題，例如降低平滑的磨削運(yùn)動(dòng)，并且加速了磨盤的磨損，從而降低了藍(lán)寶石襯底的表面處理質(zhì)量。研究了高速旋轉(zhuǎn)氣浮鉆石研磨機(jī)的轉(zhuǎn)速對(duì)材料去除率和表面粗糙度值RA的影響。

從圖5可以看出，當(dāng)高速旋轉(zhuǎn)氣浮鉆石研磨機(jī)的磨盤轉(zhuǎn)速?gòu)?0 R / min增加到97 R / min時(shí)，去除率從0.66μM / min增加到1.16μM。 / min，去除率提高了75％。

當(dāng)磨盤的轉(zhuǎn)速?gòu)?0R / min增加到80R / min時(shí)，表面粗糙度僅從15nm增加到17nm。當(dāng)轉(zhuǎn)速進(jìn)一步提高到97r / min時(shí)，由于光盤表面穩(wěn)定性的影響，表面粗糙度增加到18NM。