PCVD的工藝裝置由沉積室、反應(yīng)物輸送系統(tǒng)、放電電源、真空系統(tǒng)及檢測(cè)系統(tǒng)組成。氣源需用氣體凈化器除往水分和其它雜質(zhì)，經(jīng)調(diào)節(jié)裝置得到所需要的流量，再與源物質(zhì)同時(shí)被送進(jìn)沉積室，在一定溫度和等離子體等條件下，得到所需的產(chǎn)物，并沉積在工件或基片表面。所以，PCVD工藝既包括等離子體物理過(guò)程，又包括等離子體化學(xué)反應(yīng)過(guò)程。

隨著市場(chǎng)和研究人員的要求，隨著基于傳統(tǒng)工藝的新系統(tǒng)的出現(xiàn)，新的涂料性能得到了發(fā)展。即使通過(guò)蒸發(fā)工藝獲得的沉積速率是理想的，但事實(shí)是，濺射沉積技術(shù)在質(zhì)量和沉積速率方面取得了無(wú)疑的進(jìn)步，響應(yīng)了對(duì)此領(lǐng)域感興趣的行業(yè)和研究人員的需求，甚至用作中間層，用于通過(guò)化學(xué)氣相沉積（CVD）獲得的其他涂層。

CVD是另一種在真空下沉積的方法，并且是使待沉積材料中的揮發(fā)性化合物與其他氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的過(guò)程，以產(chǎn)生沉積在基材上的非揮發(fā)性固體。

PVD是一種出色的真空鍍膜工藝，可改善耐磨性和耐腐蝕性。它對(duì)于功能性應(yīng)用非常需要，例如工具，裝飾件，光學(xué)增強(qiáng)，模具，模具和刀片。這些只是各種各樣已經(jīng)建立好的應(yīng)用程序的幾個(gè)例子。

此技術(shù)中使用的設(shè)備維護(hù)成本低，并且對(duì)環(huán)境無(wú)害。PVD涂層的好處很多。如PVD可以提供真正獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)，從而增加產(chǎn)品的耐用性和價(jià)值。沉積技術(shù)在機(jī)加工過(guò)程中具有重要作用。

機(jī)加工工具可能是緊急的應(yīng)用之一，需要一些特性，例如高溫下的硬度，高耐磨性，化學(xué)穩(wěn)定性，韌性和剛度。此外，PVD還能夠生產(chǎn)具有優(yōu)異附著力，均勻?qū)?，設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)，漸變特性，可控形態(tài)，材料和特性的高度多樣性的涂層。