真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)突破性技術(shù)，利用物理或者化學(xué)方法并吸收一系列新技術(shù)而成的工藝，目的就是為了在實(shí)際生產(chǎn)中為產(chǎn)品創(chuàng)造薄膜保護(hù)層。工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍?nèi)N。

為什么需要進(jìn)行真空鍍膜呢？納米涂層要求使用浸泡的施工工藝，僅需要一只能容納線路板的小容器，容器的大小以剛好容納下PCBA為宜，不然會(huì)有較多的揮發(fā)損失，使用后的余料可以直接回收至原包裝中。這項(xiàng)工藝已經(jīng)成為了電子元器件制造中的一項(xiàng)不可或缺的技術(shù)，主要是為了使產(chǎn)品表面具有耐磨損耐高溫，耐腐蝕等優(yōu)于產(chǎn)品本身的性能，從而提高產(chǎn)品的質(zhì)量，延長(zhǎng)加工產(chǎn)品的使用壽命，不僅如此，還可以節(jié)約能源，獲得更為顯著的技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益。

實(shí)際應(yīng)用中，我們往往會(huì)根據(jù)產(chǎn)品的性質(zhì)來(lái)決定選用哪種真空鍍膜工藝。磁控濺射鍍主要用于金屬產(chǎn)品，蒸發(fā)鍍主要用于塑膠產(chǎn)品，光學(xué)離子鍍主要用于璃玻產(chǎn)品。這項(xiàng)工藝已經(jīng)成為了電子元器件制造中的一項(xiàng)不可或缺的技術(shù)，主要是為了使產(chǎn)品表面具有耐磨損耐高溫，耐腐蝕等優(yōu)于產(chǎn)品本身的性能，從而提高產(chǎn)品的質(zhì)量，延長(zhǎng)加工產(chǎn)品的使用壽命，不僅如此，還可以節(jié)約能源，獲得更為顯著的技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益。真空電鍍?yōu)榇趴貫R射鍍，以電鍍不銹鋼產(chǎn)品材質(zhì)為主，可以電鍍金色、玫瑰金色、黑色、槍色、藍(lán)色等顏色，質(zhì)量穩(wěn)定，品質(zhì)保障。

對(duì)于濺射類(lèi)鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來(lái)，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，終形成薄膜。

濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數(shù)之一。

濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對(duì)較差(因?yàn)槭敲}沖濺射)，晶向(外沿)生長(zhǎng)的控制也比較一般。以pld為例，因素主要有：靶材與基片的晶格匹配程度、鍍膜氛圍(低壓氣體氛圍)、基片溫度、激光器功率、脈沖頻率、濺射時(shí)間。(3)蒸發(fā)或?yàn)R射出來(lái)的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過(guò)程中，對(duì)其膜厚可進(jìn)行比較的測(cè)量和控制，從而保證膜厚的均勻性。

防水納米液真空鍍膜技術(shù)的特點(diǎn)，真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。除化學(xué)氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下的共同特點(diǎn)：

(1)各種鍍膜技術(shù)都需要一個(gè)特定的真空環(huán)境，制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過(guò)程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動(dòng)，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。

Parylene用獨(dú)特的真空氣相沉積工藝制備，由活性小分子在基材表面“生長(zhǎng)”出完全敷形的聚合物薄膜涂層，具有其他涂層難以比擬的性能優(yōu)勢(shì)。它能涂敷到各種形狀的表面，包括尖銳的棱邊，裂縫里和內(nèi)表面。

派瑞林英文名：Parylene六十年代中期美國(guó)Union Carbide Co. 開(kāi)發(fā)應(yīng)用的一種新型敷形涂層材料，它是一種聚合物，根據(jù)分子結(jié)構(gòu)的不同，Parylene可分為N型、C型、D型、HT型等多種類(lèi)型。