在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

PVD真空鍍層按照膜層應(yīng)用來(lái)分類可分為裝飾膜層和硬質(zhì)膜層：

裝飾膜層可以改善工件外觀裝飾性能和色澤同時(shí)使工件更耐磨耐腐蝕；硬質(zhì)膜層用于提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系數(shù)，提高工件的使用壽命。

電子束蒸發(fā)鍍膜

利用高速電子束加熱使材料汽化蒸發(fā)，在基片表面凝結(jié)成膜的技術(shù)。電子束熱源的能量密度可達(dá)104-109w/cm2，可達(dá)到3000℃以上，可蒸發(fā)高熔點(diǎn)的金屬或介電材料如鎢、鉬、鍺、SiO2、AL2O3等。

電子束加熱的蒸鍍?cè)从兄睒屝碗娮訕尯蚭型電子槍兩種(也有環(huán)行)，電子束自源發(fā)出，用磁場(chǎng)線圈使電子束聚焦和偏轉(zhuǎn)，對(duì)膜料進(jìn)行轟擊和加熱。

在靶材和襯底之間加上一個(gè)直流高壓，極板間的氣體（一般為Ar2）電離，高速帶電離子轟擊靶材表面的濺射鍍膜技術(shù)。要保持自持放電，在兩極板間距為數(shù)厘米的正常濺射間距下，放電氣壓一般高達(dá)10帕，這對(duì)濺射效率和薄膜質(zhì)量都是不利的。鍍鈦不僅能使工具豐富多彩，也是工具達(dá)到一定硬度的效果，采用PVD技術(shù)，使工具具有優(yōu)異的性能。因此，直流濺射多采用非自持放電，也就是加入熱電子發(fā)射極和輔助陽(yáng)極的四極濺射，可使濺射在10-1～10-2帕的低氣壓下進(jìn)行。