脈沖激光沉積(PLD)簡介

隨著新型氧化物/氮化物的研究和發(fā)展，用于沉積它們的外延生長設(shè)備：脈沖激光沉積(PLD)和由其衍生的生長技術(shù)也越來越受到科研工作者的重視和青睞。PLD是近年來發(fā)展起來的一種真空物理沉積工藝，具有襯底溫度較低，而且采用光學(xué)系統(tǒng)、非接觸加熱和避免不必要的玷污等特點。PLD還有一個很大的優(yōu)點，即能夠通入較高的氧分壓(1 ~ 50 mTorr)，特別適于氧化物的生長。但是PLD方法無法準確控制膜厚，不可能制備原子層尺度的超薄型薄膜和超晶格材料。

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脈沖激光沉積 （Pulsed laser deposition, PLD），就是將激光聚焦于靶材上一個較小的面積，利用激光的高能量密度將部分靶材料蒸發(fā)甚至電離，使其能夠脫離靶材而向基底運動，進而在基底上沉積，從而形成薄膜的一種方式。 在眾多的薄膜制備方法中，脈沖激光沉積技術(shù)的應(yīng)用較為廣泛，可用來制備金屬、半導(dǎo)體、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各種物質(zhì)薄膜，甚至還用來制備一些難以合成的材料膜，如金剛石、立方氮化物膜等。

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脈沖激光沉積系統(tǒng)特點及優(yōu)勢：

可根據(jù)客戶需求定制產(chǎn)品，靈活性高，并提供專業(yè)的技術(shù)支持；靶臺最多可以安裝6個靶位，靶材更換靈活；樣品臺樣品尺寸從10x10mm樣品到2英寸樣品均適用；進樣室可以存儲多個靶和樣品；交易過程無需繁瑣的進、出關(guān)手續(xù), 交貨期短，性價比高；

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