磁     控    靶

 磁控濺射靶是真空磁控濺射鍍膜的核心部件，它的重要作用主要表現(xiàn)在以下兩個(gè)方面

(1)對(duì)于大面積表面的鍍膜，磁控濺射靶影響著膜層的均勻性與重復(fù)性；

(2)當(dāng)膜層材料為貴重金屬時(shí)，靶的結(jié)構(gòu)決定著靶材(形成薄膜的材料)，即該貴重金屬的利用率.從靶結(jié)構(gòu)上分為:圓形平面靶/柱狀靶/矩形靶/

常規(guī)圓形平面靶規(guī)格:

1.靶材尺寸：Ф50mm；Ф60mm；Ф75mm；Ф100mm；Ф150mm；可定制各類(lèi)磁控靶

2.永磁靶（可濺射磁性材料)，射頻濺射與直流濺射兼容，靶內(nèi)水冷；

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高溫束源爐技術(shù)特征

以下內(nèi)容由沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供，希望對(duì)同行業(yè)的朋友有所幫助。

高溫束源爐，包括機(jī)架，其特征在于，包括底座和垂直設(shè)置在所述底座上的立桿，本體包括坩堝、加熱絲、冷卻波紋管和電極組件，底座的上方設(shè)置有保護(hù)罩，保護(hù)罩內(nèi)設(shè)置有所述坩堝和所述加熱絲，坩堝上設(shè)置有所述加熱絲，坩堝的外側(cè)設(shè)置有屏蔽層，底座上設(shè)置有所述冷卻波紋管和所述電極組件，冷卻波紋管通過(guò)連接管路與所述束源爐本體連通，電極組件通過(guò)連接引線與所述束源爐本體連接。電極下部分包括與冷卻水管下端配合的緊固螺母端蓋，該緊固螺母端蓋上固定有進(jìn)水管和排水管，進(jìn)水管上端口伸向冷卻水管上部的電極上部分受熱區(qū)，排水管上端口位于冷卻水管底部。

靶材鍍膜前的清潔

在進(jìn)行鍍膜前都必須將基片進(jìn)行清潔,對(duì)于在線鍍膜來(lái)說(shuō),這是很小的事情,但對(duì)離線鍍膜來(lái)說(shuō)卻相當(dāng)重要,而且操作起來(lái)也比較困難，對(duì)于大面積的鍍膜來(lái)說(shuō),將玻璃基片完全清潔干凈是不可能的,因此,如何達(dá)到鍍膜所必須要求的潔凈程度就變得非常重要。要保持清潔程度足夠高,如果清潔程度不夠,膜層容易老化,甚至脫膜等現(xiàn)象。不同用途,不同加工工藝的膜層對(duì)清潔程度要求是不一樣的,對(duì)于目前我司生產(chǎn)的玻璃來(lái)說(shuō), Low-E玻璃要求的玻璃潔凈度不如熱反射玻璃高。溫度控制和均勻的基于SCR功率輸出電源實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確的沉積速率控制，并確保高質(zhì)量的，均勻的膜。目前要為鍍膜準(zhǔn)備大面積的鍍膜玻璃基片，主要采用的是一 種濕式清潔技術(shù),這種技術(shù)包括三部分:

1.松動(dòng)玻璃表面的雜質(zhì)

2.去除已經(jīng)松動(dòng)的、分離的雜質(zhì)

3.干燥已經(jīng)清潔的玻璃表面

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什么是靶材？

沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專(zhuān)業(yè)電阻熱蒸發(fā)鍍膜產(chǎn)品供應(yīng)商，我們?yōu)槟鷰?lái)以下信息。

靶材就是目標(biāo)材料。用于高能激光器械中,不同功率密度、不同輸出波形、 不同波長(zhǎng)的激光與不同的靶材相互作用時(shí),會(huì)產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應(yīng)。用于物理鍍膜中的濺鍍，主要有金屬靶材和陶瓷靶材。

磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式,較之較早點(diǎn)的蒸發(fā)鍍膜方式,其很多方面的優(yōu)勢(shì)相當(dāng)明顯。作為- -項(xiàng)已經(jīng)發(fā)展的較為成熟的技術(shù),磁控濺射已經(jīng)被應(yīng)用于許多領(lǐng)域。