ZF500有機(jī)蒸發(fā)鍍膜機(jī)

廣泛應(yīng)用于高校材料、物理、化學(xué)、電子、能源等相關(guān)學(xué)科以及科研院所制備高質(zhì)量功能薄膜、蒸鍍電極等，半導(dǎo)體、有機(jī)EL、OLED顯示研究與開(kāi)發(fā)領(lǐng)域。

系統(tǒng)組成:

主要由真空室、蒸發(fā)源、樣品臺(tái)、 真空抽氣及測(cè)量、膜厚測(cè)試 、電控系統(tǒng)組成。

技術(shù)指標(biāo)：

極限真空度4×10-5Pa，系統(tǒng)漏率：1.2×10-7PaL/S； 恢復(fù)真空時(shí)間：40分鐘可達(dá)6.0×10 Pa-4

真空室：D形真空室，尺寸350× 400mm

樣品臺(tái)：尺寸為4英寸4平面樣品；

有機(jī)束源爐：數(shù)量：4支，標(biāo)準(zhǔn)型600度控溫；

樣品架：安裝加熱爐?；臏囟葟氖覝刂?00℃（硅片上表面的溫度，只需標(biāo)定一次即可）

4套擋板系統(tǒng)：動(dòng)密封手動(dòng)控制；

樣品擋板（１套），磁力撥叉，

膜厚控制儀：膜厚測(cè)量范圍0-999999? 

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多源有機(jī)無(wú)機(jī)蒸發(fā)?系統(tǒng)鈣鈦礦鍍膜設(shè)備公司

多源有機(jī)無(wú)機(jī)蒸發(fā)系統(tǒng)

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主要用途：

用于納米級(jí)單層及多層金屬膜、 半導(dǎo)體膜等新材料的制備。廣泛應(yīng)用 于大專(zhuān)院校的薄膜材料科研。

由真空室、蒸發(fā)源、樣品臺(tái)、 真空測(cè)量、膜厚測(cè)試、電控系統(tǒng)組成。

極限真空度5.0×10-5Pa，系統(tǒng)漏率：1×10-7PaL/S； 恢復(fù)真空時(shí)間：40分鐘可達(dá)6.6×10 Pa

真空室：D形真空室，尺寸350× 380mm 

樣品臺(tái)：尺寸為4英寸厚度3mm的平面樣品；

電極：數(shù)量：4支水冷結(jié)構(gòu)；直徑Φ20㎜

樣品基片:，基片在鍍膜位置實(shí)現(xiàn)自轉(zhuǎn)?；臏囟葟氖覝刂?00℃

4套擋板系統(tǒng)：基片擋板與源擋板；靶擋板共有3套， 樣品擋板（１套）

石英晶振膜厚控制儀：膜厚測(cè)量范圍0-999999? 

可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統(tǒng)。

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電阻蒸發(fā)鍍膜機(jī)的結(jié)構(gòu)以及特點(diǎn)

結(jié)構(gòu)和特點(diǎn)：結(jié)構(gòu)可為立臥式雙開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu)，成膜速率快，色澤鮮亮，膜層不易受污染，可獲得致密性好、純度高、膜厚均勻的膜層，不產(chǎn)生廢液、廢水，可避免對(duì)環(huán)境污染，屬環(huán)保設(shè)備。

沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司本著多年電阻熱蒸發(fā)鍍膜產(chǎn)品行業(yè)經(jīng)驗(yàn)，專(zhuān)注電阻熱蒸發(fā)鍍膜產(chǎn)品研發(fā)定制與生產(chǎn)，先進(jìn)的電阻熱蒸發(fā)鍍膜產(chǎn)品生產(chǎn)設(shè)備和技術(shù)，建立了嚴(yán)格的產(chǎn)品生產(chǎn)體系，想要更多的了解，歡迎咨詢(xún)圖片上的熱線(xiàn)電話(huà)?。?！