OLED有機無機聯(lián)合蒸發(fā)系統(tǒng)介紹

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OLED有機無機聯(lián)合蒸發(fā)系統(tǒng)的用途 ：

適用于制備金屬單質薄膜、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等，可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產前的試驗工作。如果加熱速度慢，相當于樣品在一系列溫度下漸次分解，使分解過程復雜化(包括許多副反應)，譜圖的特征性和重復性就差。與手套箱聯(lián)合系統(tǒng)的用戶群體為科研院所及實驗室，將真空蒸發(fā)系統(tǒng)工作室置于Glove box無水、無氧、無塵的超純環(huán)境中，PVD與Glove box硬件無縫對接，操控融合一體，廣泛應用于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領域

鈣鈦礦鍍膜設備

以下內容由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供，今天我們來分享電阻熱蒸發(fā)鍍膜產品的相關內容，希望對同行業(yè)的朋友有所幫助！

設備用途 ：

適用于制備金屬單質薄膜、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等，可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產前的試驗工作。廣泛應用于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領域

設備組成：

該設備主要由沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量、蒸發(fā)源、樣品加熱、電控系統(tǒng)、等部分組成。

      1、鍍膜室：方形前后開門結構，內帶有防污板。

      2、真空度：鍍膜室的極限真空≤5×10-5Pa；

      3、蒸發(fā)源系統(tǒng)：有機源蒸發(fā)源4個，無機蒸發(fā)源2套

      4、樣品架系統(tǒng)：樣品大小為Φ150mm的樣品，旋轉速度為：0～30轉/分；

      5、樣品在鍍膜過程中，可烘烤加熱，加熱溫度為：室溫～190℃，測溫控溫。

      6、膜厚控制儀：測量范圍0-999999?

鈣鈦礦鍍膜機介紹

主要由有機/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。ParyleneN粉是各類Parylene中具有較強的滲透能力，能夠有效地在各種細縫或盲孔表面形成薄膜。適用于制備金屬單質薄膜、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等，可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產前的試驗工作，廣泛應用于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領域。鈣鈦礦鍍膜機工作過程中樣品位于真空室上方，蒸發(fā)源位于真空室下方，向上蒸發(fā)鍍膜，且蒸發(fā)源帶有擋板裝置，防止蒸發(fā)源被污染。

沈陽鵬程真空技術有限責任公司以誠信為首,服務至上為宗旨。公司生產、銷售電阻熱蒸發(fā)鍍膜產品,公司擁有強大的銷售團隊和經營理念。想要了解更多信息，趕快撥打圖片上的熱線電話！

有機熱蒸發(fā)鍍膜機介紹

技術指標：

1. 真空室的極限真空度達5*10-5pa，漏率為關機12小時≤5pa

2. 真空腔內配有集約樣品臺一套，配有大擋板和16套小擋板，手動控制，開關方便快捷，每個小擋板擋兩塊30*30mm樣片

3. 蒸發(fā)源共14套，其中10套有機蒸發(fā)源，4套金屬蒸發(fā)源?？販?span style="text-indent:2em;font-size:12px;">精度±1℃，可以實現溫度或電流補償實現蒸鍍速率穩(wěn)定的功能

4. 金屬蒸發(fā)源配4臺一帶一1000W可控硅調壓電源，通過銅電極連接，兩端可夾鎢絞絲或者鉭舟，鎢絞絲可以蒸鍍絲狀或者大顆粒材料，鉭舟可以蒸鍍粉末狀材料，蒸發(fā)源采用陶瓷全密封，避免交叉污染

5. 有機蒸發(fā)源配10臺一帶一溫控電源，有機源溫度為室溫-500度，可以根據材料及用戶需求自行調節(jié)

6. 樣品臺具有旋轉、升降功能，可在線更換掩膜板一次，可同時裝載30mm*30mm樣品16塊。本產品每兩個樣品都配有小擋板，并且通過PLC控制步進電機對每個小擋板做16個定位，使機械手推拉小擋板，樣品與蒸發(fā)源之間的間距為200-300mm

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