PLD450型脈沖激光鍍膜介紹

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專業(yè)脈沖激光沉積供應(yīng)商，我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?

主要用途：　　

用于制備超導(dǎo)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。適用于各大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備?！　?

系統(tǒng)組成:　　

主要由濺射真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成?！　?

脈沖激光沉積設(shè)備介紹

以下是沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您一起分享的內(nèi)容，沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專業(yè)生產(chǎn)脈沖激光沉積，歡迎新老客戶蒞臨。

是比較理想的薄膜與涂層合成設(shè)備。可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。Blue Wave還提供相關(guān)系統(tǒng)配件，例如基片加熱裝置、原位監(jiān)測工具。PLD還有一個很大的優(yōu)點，即能夠通入較高的氧分壓(1~50mTorr)，特別適于氧化物的生長。此外，BlueWave還為您提供標(biāo)準(zhǔn)的薄膜以及材料涂層，例如氧化物涂層、導(dǎo)電薄膜、無定型或納米晶Si/SiC、晶體AlN-GaN、聚合物、納米鉆石、HFCVD鉆石涂層以及器件加工。

脈沖激光沉積系統(tǒng)的特點有哪些？

?  超高真空不銹鋼腔體

?  可集成熱蒸發(fā)源或濺射源

?  可旋轉(zhuǎn)的耐氧化基片加熱臺

?  流量計或針閥準(zhǔn)確控制氣體流量

?  標(biāo)準(zhǔn)真空計?  干泵與分子泵

?  可選配不銹鋼快速進樣室

?  可選配基片-靶材距離自動控制系統(tǒng)

?  是金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬納米薄膜、多層膜、超晶格的較佳設(shè)備

以上就是為大家介紹的全部內(nèi)容，希望對大家有所幫助。如果您想要了解更多脈沖激光沉積的知識，歡迎撥打圖片上的熱線聯(lián)系我們。

脈沖激光沉積介紹

脈沖激光沉積系統(tǒng)具有獨特的優(yōu)越性。它可以把激光燒蝕技術(shù)和我們所擁有的其他沉積技術(shù)（如RF源）集成于一臺設(shè)備上?？梢陨L各種可能的材料。

● 配有6個旋轉(zhuǎn)靶臺，實現(xiàn)多層薄膜結(jié)構(gòu)生長。

● 可與準(zhǔn)分子激光和Yag激光相連。

● 在線監(jiān)控儀器做為可選件，為客戶提供高質(zhì)量的工藝信息反饋。

● 裝載室不但可以裝取樣品，還可以與其他生長設(shè)備或分析設(shè)備相連。

應(yīng)用

● 多元素復(fù)合氧化物

● 高溫超導(dǎo)材料

● 磁性材料、金屬材料

● 低蒸汽壓材料

● MEMS

期望大家在選購脈沖激光沉積時多一份細(xì)心，少一份浮躁，不要錯過細(xì)節(jié)疑問。想要了解更多脈沖激光沉積的相關(guān)資訊，歡迎撥打圖片上的熱線電話！?。?